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公开(公告)号：CN116444167B
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202310480173.7
申请日：2023-04-28
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: C03C15/00
Abstract: 本发明涉及一种提升熔石英元件抗紫外激光诱导损伤性能的刻蚀方法，属于熔石英元件加工技术领域，对熔石英元件的表面进行反应离子刻蚀处理，所述反应离子刻蚀采用的等离子体包括氟碳等离子体、氩等离子体和氧等离子体，本发明采用纯干法刻蚀对熔石英元件进行表面后处理，在现有反应离子刻蚀技术基础上，通过在原料气中添加一定量的氧气，或是在刻蚀完成之后继续用氧等离子对样品进行一定时间的后处理，抑制F元素与熔石英基体的结合，抑制或修复次生缺陷的生成，提高元件抗损伤性能提升幅度。
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公开(公告)号：CN118584654A
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202410843919.0
申请日：2024-06-27
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B26/06
Abstract: 本发明提供了一种波前控制方法及系统，包括：利用夏克哈特曼波前传感器获得待校正激光光束入射到夏克哈特曼波前传感器上的子孔径光斑分布，控制器根据待校正激光光束入射到夏克哈特曼波前传感器上的子孔径光斑分布的区域取一个最小外接矩形，计算最小外接矩形的子孔径的波前斜率，并根据各子孔径的波前斜率计算出待校正激光光束的波前，根据待校正激光光束的波前数据与变形镜的响应函数，利用最小二乘法计算出变形镜的第一驱动电压，控制变形镜实现对待校正激光光束波前的校正，实现了波前控制过程在入射光束区域的最小外接矩形的条件下进行，使得波前控制能够不受入射光束截面形状的影响，极大的提高了波前校正的准确性。
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公开(公告)号：CN111244738B
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：CN202010060494.8
申请日：2020-01-19
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开一种双波长泵浦中红外光纤激光器，包括用于分别提供第一泵浦激光和第二泵浦激光的第一泵浦光源和第二泵浦光源、用于对第一泵浦激光反射的反射镜、用于第一泵浦激光和第二泵浦激光耦合的泵浦双色镜、用于第一泵浦激光和第二泵浦激光的聚焦耦合的泵浦耦合透镜，用于对第一泵浦激光和第二泵浦激光吸收产生信号激光的增益光纤、用于选择性的对特定波长激光进行反射的光纤布拉格光栅、用于对经光纤布拉格光栅输出的激光进行耦合的输出耦合镜、以及用于将残余泵浦激光与信号激光分离的输出双色镜，本发明结构简单，反射率高，泵浦光损失少，且激光输出阈值低，输出效率高，能有效降低成本，适合推广使用。
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公开(公告)号：CN117039609A
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202310997843.2
申请日：2023-08-09
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明涉及一种等离子体电极垂直外腔面发射激光器及其使用方法，属于半导体激光器技术领域，等离子体电极垂直外腔面发射激光器依次包括面电极、衬底、DBR、有源区、等离子体电极以及外腔镜，所述等离子体电极以气体放电产生的低温等离子体作为电极，且所述等离子体电极位于垂直外腔面发射激光器的出光侧，所述外腔镜对应出光侧设置，本发明中低温等离子体对激光的透过率接近百分之百，具有较高的损伤阈值，可承受高功率高能量激光输出，出光侧的整个通光口径内均有等离子体电极覆盖，电流分布几乎一致，无电流拥挤效应，有源区内的注入电流分布均匀，可输出较高质量的激光光束，同时，等离子体电极可以扩散至任意口径，可实现大口径VECSEL。
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公开(公告)号：CN115993696A
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202211541988.3
申请日：2022-12-02
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供了一种焦斑控制方法及其系统，通过放置在焦点之后的透镜和静态相位板对光束焦斑进行模糊成像，利用控制模块控制变形镜对模糊焦斑进行波前闭环控制，所采用的硬件包括一个点光源、一个焦斑探测器、一个透镜、一个静态相位板、一个变形镜及其驱动电源、一个控制模块控制器组成。将标准点光源放置在待校正激光光束的焦斑位置，对标准点光源条件下的标准焦斑进行模糊成像，利用焦斑探测器进行测量，得到标准焦斑的空间强度分布函数，并根据标准焦斑的空间强度分布函数利用控制模块控制变形镜对待校正激光光束条件下的待校正焦斑进行模糊成像后进行波前闭环控制，显著提升了波前闭环控制的精度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115332932A
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN202211036992.4
申请日：2022-08-25
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种可校正波前畸变的电光开关，其包括壳体、依次平行设置于壳体内的窗口、电光晶体、反射镜及压电层，窗口与电光晶体及反射镜三者之间形成2个放电腔，2个放电腔内各放置一个环电极且2个放电腔内均密封有放电气体，压电层的两侧分别设置有上电极层及下电极层，上电极层远离压电层一面与反射镜的表面连接，下电极层被图形化为多个分立电极阵列。采用反射式等离子体电极普克尔盒，实现电光晶体的纵向普克尔效应，同时，通过在反射镜远离电光晶体一侧设置压电层，压电层可在外接驱动电压的驱动下发生形变，从而可以间接控制反射镜表面的面型，校正激光通过电光晶体时引起的波前畸变，提高激光的光束质量。
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公开(公告)号：CN115390237B
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202211025460.0
申请日：2022-08-25
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种等离子体电极变形镜，其技术方案要点是包括窗口；反射镜，其与窗口平行设置；金属阴极，其位于窗口与反射镜之间；金属阳极，其位于窗口与反射镜之间；以及放电腔，其位于窗口与反射镜之间，其内存储有放电气体，金属阴极和金属阳极与放电腔内的放电气体接触；通过两电极对放电气体进行电离，形成低温等离子体，等离子体含有大量可自由移动的电子和离子可视为导体，其次，低温等离子体对通过的激光几乎无影响，因此可以作为透明电极置于反射镜表面用于驱动压电层。
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公开(公告)号：CN116435857A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202310351503.2
申请日：2023-04-04
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明涉及一种光束偏振可控装置、热退偏补偿系统及使用方法，属于热退偏补偿技术领域，光束退偏具有一定的空间分布，首先采用波前传感器测量寻常光和非寻常光之间相位差的空间分布，然后在光束偏振可控装置上加载所需空间分布的电场，电光晶体内不同位置将产生相应的双折射，光束通过时寻常光和非寻常光之间的相位差将得到校正，从而实现自适应地补偿热退偏。相较于传统静态热退偏补偿系统，本发明能够根据光束热退偏的空间分布进行主动编程控制，实现闭环主动补偿光束热退偏，能够有效提升热退偏的补偿效果以及复杂热退偏分布下退偏补偿的适应性，进而提高激光系统光路设计的灵活性。
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公开(公告)号：CN111342327A
公开(公告)日：2020-06-26
申请号：CN202010147115.9
申请日：2020-03-05
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开一种激光转换介质夹持装置及激光器，包括填充材料和冷却热沉，激光转换介质通过填充材料与冷却热沉连接，所述冷却热沉上对应激光转换介质设置有安装孔，所述激光转换介质安装于安装孔内，所述填充材料设置于激光转换介质和冷却热沉之间。本发明激光转换介质夹持装置具有宽温度范围适应性，当温度发生大幅变化时仍能保持激光转换介质与冷却热沉之间的良好有效的热传导，且不会因热胀冷缩发生激光转换介质压碎或者填充材料发生塑性形变无法恢复的现象，因此本装置具有良好的热管理效果与环境适应性。
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公开(公告)号：CN105870772A
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201610430659.X
申请日：2016-06-16
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: H01S3/0941 , H01S3/042 , H01S3/16
Abstract: 本发明涉及一种激光增益芯片及激光组件、功率放大器和振荡器，属于激光设备技术领域，所述激光增益芯片包括激光源、增益介质、泵浦源和冷却流体，所述泵浦源包括相连接的二极管阵列和耦合装置，所述激光源、耦合装置和冷却流体分别对应增益介质的不同侧面设置，且所述冷却流体、泵浦光、激光的传输方向垂直正交，所述增益介质内部沿着泵浦光的传输方向设置为渐变掺杂结构，本发明中泵浦场、激光场及冷却流体场三场垂直正交，解除了三场空间上的耦合，使得每一个场都可独立控制，另外，每个增益介质拥有独立的泵浦源，将激光增益芯片沿激光传输方向级联多个，即可实现功率扩展，操作便捷，利于工程实施。
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