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公开(公告)号：CN106311682B
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201610879881.8
申请日：2016-10-09
Applicant: 中国工程物理研究院流体物理研究所
Abstract: 本发明公开了一种基于微波电离的介质膜层表面污染清除系统及其清除方法，包括样品仓，所述样品仓外部设置有微波源、真空机构、气体流量控制系统、氧气源和惰性气体气源，氧气源和惰性气体气源均与气体流量控制系统连接，微波源、真空机构和气体流量控制系统均与样品仓内部连通。该系统及方法针对光学元件介质膜层表面的指纹污染可以通过非接触的方式进行有效清洁，同时不对膜层造成损伤，保持光学元件的性能符合要求，不会有残留物，也不会造成二次污染。
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公开(公告)号：CN109148729A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201811016869.X
申请日：2018-09-03
Applicant: 中国工程物理研究院流体物理研究所
CPC classification number: H01L51/5221 , H01L51/56
Abstract: 本发明公开了一种光电器件阴极界面层及其制备方法，所述光电器件阴极界面层由金属纳米粒子溶液与阴极界面材料溶液共混后涂覆制成，所述阴极界面材料包覆在金属纳米粒子表面，所述阴极界面材料与金属纳米粒子发生偶联作用。采用本发明所述制备方法制备的光电器件阴极界面层的导电性能有了明显提升，具有很好的电子迁移率，且通过阴极界面材料的基团与金属纳米粒子可发生偶联，阴极界面材料可包覆在金属纳米粒子表面避免对光电器件的荧光淬灭，大大提升光电器件的性能。
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公开(公告)号：CN106311682A
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：CN201610879881.8
申请日：2016-10-09
Applicant: 中国工程物理研究院流体物理研究所
CPC classification number: B08B7/0035 , B08B5/00 , B08B11/00
Abstract: 本发明公开了一种基于微波电离的介质膜层表面污染清除系统及其清除方法，包括样品仓，所述样品仓外部设置有微波源、真空机构、气体流量控制系统、氧气源和惰性气体气源，氧气源和惰性气体气源均与气体流量控制系统连接，微波源、真空机构和气体流量控制系统均与样品仓内部连通。该系统及方法针对光学元件介质膜层表面的指纹污染可以通过非接触的方式进行有效清洁，同时不对膜层造成损伤，保持光学元件的性能符合要求，不会有残留物，也不会造成二次污染。
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