公开(公告)号：CN106311682B

公开(公告)日：2018-11-13

申请号：CN201610879881.8

申请日：2016-10-09

Applicant: 中国工程物理研究院流体物理研究所

Inventor： 任攀 ,  吴凡 ,  张家雷 ,  王伟平 ,  张宁

IPC: B08B7/00 ,  B08B5/00 ,  B08B11/00

Abstract: 本发明公开了一种基于微波电离的介质膜层表面污染清除系统及其清除方法，包括样品仓，所述样品仓外部设置有微波源、真空机构、气体流量控制系统、氧气源和惰性气体气源，氧气源和惰性气体气源均与气体流量控制系统连接，微波源、真空机构和气体流量控制系统均与样品仓内部连通。该系统及方法针对光学元件介质膜层表面的指纹污染可以通过非接触的方式进行有效清洁，同时不对膜层造成损伤，保持光学元件的性能符合要求，不会有残留物，也不会造成二次污染。

公开(公告)号：CN106311682A

公开(公告)日：2017-01-11

申请号：CN201610879881.8

申请日：2016-10-09

Applicant: 中国工程物理研究院流体物理研究所

Inventor： 任攀 ,  吴凡 ,  张家雷 ,  王伟平 ,  张宁

IPC: B08B7/00 ,  B08B5/00 ,  B08B11/00

CPC classification number: B08B7/0035 ,  B08B5/00 ,  B08B11/00

Abstract: 本发明公开了一种基于微波电离的介质膜层表面污染清除系统及其清除方法，包括样品仓，所述样品仓外部设置有微波源、真空机构、气体流量控制系统、氧气源和惰性气体气源，氧气源和惰性气体气源均与气体流量控制系统连接，微波源、真空机构和气体流量控制系统均与样品仓内部连通。该系统及方法针对光学元件介质膜层表面的指纹污染可以通过非接触的方式进行有效清洁，同时不对膜层造成损伤，保持光学元件的性能符合要求，不会有残留物，也不会造成二次污染。