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公开(公告)号：CN107063082B
公开(公告)日：2019-09-20
申请号：CN201610910346.4
申请日：2016-10-19
Applicant: 中国工程物理研究院流体物理研究所
Abstract: 本发明公开了一种天平加载头位姿检测装置，所述装置包括：指示光源、位置探测结构，所述指示光源安装在待检测天平加载头上表面，所述位置探测结构包括：指示光斑照射靶面、光学成像系统、位置探测器，所述指示光斑照射靶面开设有中心孔，所述位置探测器的端面设有开口，所述开口中心线与所述中心孔中心线重合，所述位置探测器固定在所述指示光斑照射靶面的背面，所述光学成像系统位于所述指示光斑照射靶面的正面前方，实现了利用本申请中的装置加载头位置姿态的大范围变化监测与复位位置姿态附近的高精密检测可以同时进行，并满足了加载头位置姿态检测的大范围、高精度测量要求。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106970411B
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN201710316145.6
申请日：2017-05-08
Applicant: 中国工程物理研究院流体物理研究所
IPC: G01T1/29
Abstract: 本发明公开了一种电子束发散角分布测量装置及测量方法，包括密封真空靶室、转换靶、防散射遮光筒，在密封真空靶室上设置有与防散射遮光筒对应的光线输出窗口，还包括一个成像系统，电子束轰击转换靶后产生切伦科夫辐射光，切伦科夫辐射光进入防散射遮光筒后通过光线输出窗口输出，经过窄带滤光片滤光后在成像系统上成像。本发明利用电子束轰击转换靶后产生切伦科夫辐射光，进入防散射遮光筒后通过光线输出窗口输出，经过窄带滤光片滤光后在成像系统上进行焦平面成像，利用焦平面的成像进行反演推算出电子束的发散角分布。
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公开(公告)号：CN107063082A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201610910346.4
申请日：2016-10-19
Applicant: 中国工程物理研究院流体物理研究所
Abstract: 本发明公开了一种天平加载头位姿检测装置，所述装置包括：指示光源、位置探测结构，所述指示光源安装在待检测天平加载头上表面，所述位置探测结构包括：指示光斑照射靶面、光学成像系统、位置探测器，所述指示光斑照射靶面开设有中心孔，所述位置探测器的端面设有开口，所述开口中心线与所述中心孔中心线重合，所述位置探测器固定在所述指示光斑照射靶面的背面，所述光学成像系统位于所述指示光斑照射靶面的正面前方，实现了利用本申请中的装置加载头位置姿态的大范围变化监测与复位位置姿态附近的高精密检测可以同时进行，并满足了加载头位置姿态检测的大范围、高精度测量要求。
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公开(公告)号：CN106970411A
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：CN201710316145.6
申请日：2017-05-08
Applicant: 中国工程物理研究院流体物理研究所
IPC: G01T1/29
CPC classification number: G01T1/2907
Abstract: 本发明公开了一种电子束发散角分布测量装置及测量方法，包括密封真空靶室、转换靶、防散射遮光筒，在密封真空靶室上设置有与防散射遮光筒对应的光线输出窗口，还包括一个成像系统，电子束轰击转换靶后产生切伦科夫辐射光，切伦科夫辐射光进入防散射遮光筒后通过光线输出窗口输出，经过窄带滤光片滤光后在成像系统上成像。本发明利用电子束轰击转换靶后产生切伦科夫辐射光，进入防散射遮光筒后通过光线输出窗口输出，经过窄带滤光片滤光后在成像系统上进行焦平面成像，利用焦平面的成像进行反演推算出电子束的发散角分布。
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公开(公告)号：CN206160939U
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201621137058.1
申请日：2016-10-19
Applicant: 中国工程物理研究院流体物理研究所
Abstract: 本实用新型公开了一种天平加载头位姿检测设备，所述设备包括：指示光源、位置探测结构，所述指示光源安装在待检测天平加载头上表面，所述位置探测结构包括：指示光斑照射靶面、光学成像系统、位置探测器，所述指示光斑照射靶面开设有中心孔，所述位置探测器的端面设有开口，所述开口中心线与所述中心孔中心线重合，所述位置探测器固定在所述指示光斑照射靶面的背面，所述光学成像系统位于所述指示光斑照射靶面的正面前方，实现了利用本申请中的设备加载头位置姿态的大范围变化监测与复位位置姿态附近的高精密检测可以同时进行，并满足了加载头位置姿态检测的大范围、高精度测量要求。
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公开(公告)号：CN206710616U
公开(公告)日：2017-12-05
申请号：CN201720499447.7
申请日：2017-05-08
Applicant: 中国工程物理研究院流体物理研究所
IPC: G01T1/29
Abstract: 本实用新型公开了一种电子束发散角分布测量装置，包括密封真空靶室、转换靶、防散射遮光筒，在密封真空靶室上设置有与防散射遮光筒对应的光线输出窗口，还包括一个成像系统，电子束轰击转换靶后产生切伦科夫辐射光，切伦科夫辐射光进入防散射遮光筒后通过光线输出窗口输出，经过窄带滤光片滤光后在成像系统上成像。本实用新型利用电子束轰击转换靶后产生切伦科夫辐射光，进入防散射遮光筒后通过光线输出窗口输出，经过窄带滤光片滤光后在成像系统上进行焦平面成像，利用焦平面的成像进行反演推算出电子束的发散角分布。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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