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公开(公告)号：CN112063433B
公开(公告)日：2022-03-04
申请号：CN202010859510.X
申请日：2020-08-24
Applicant: 中国地质科学院郑州矿产综合利用研究所 , 中国地质大学(北京)
IPC: C10M125/02 , C10M125/10 , B82Y30/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明提出了一种核壳结构的氧化铝‑石墨烯及其制备方法，本发明提出了一种核壳结构的氧化铝‑石墨烯及其制备方法，制备步骤为：(1)在不锈钢基底上均匀镀覆类金刚石薄膜，得到下基底片；(2)在下基底片的类金刚石薄膜界面上铺展氧化铝纳米颗粒，得到上基底片；(3)在惰性气体条件下，将上基底片和下基底片向同一方向交替旋转对磨，制备核壳结构的氧化铝‑石墨烯。本发明通过摩擦法，制备出“氧化铝‑石墨烯”的核壳结构。制备工艺简单，操作性强，可大批量生产，适用于工业生产和应用。
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公开(公告)号：CN112063433A
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN202010859510.X
申请日：2020-08-24
Applicant: 中国地质科学院郑州矿产综合利用研究所 , 中国地质大学(北京)
IPC: C10M125/02 , C10M125/10 , B82Y30/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明提出了一种核壳结构的氧化铝‑石墨烯及其制备方法，本发明提出了一种核壳结构的氧化铝‑石墨烯及其制备方法，制备步骤为：(1)在不锈钢基底上均匀镀覆类金刚石薄膜，得到下基底片；(2)在下基底片的类金刚石薄膜界面上铺展氧化铝纳米颗粒，得到上基底片；(3)在惰性气体条件下，将上基底片和下基底片向同一方向交替旋转对磨，制备核壳结构的氧化铝‑石墨烯。本发明通过摩擦法，制备出“氧化铝‑石墨烯”的核壳结构。制备工艺简单，操作性强，可大批量生产，适用于工业生产和应用。
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公开(公告)号：CN112077673B
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN202010858395.4
申请日：2020-08-24
Applicant: 中国地质科学院郑州矿产综合利用研究所 , 中国地质大学(北京)
Abstract: 本发明提出了一种核壳结构的“氧化物‑石墨烯”的加工装置及方法，加工装置包括控制罩、冲洗机构、配料机构、气体控制系统和上夹具，控制罩内设置有应力加载机构，应力加载机构与上夹具相连，上夹具的下方设置有运动台，运动台包括支撑机构，支撑机构的上端设置有可沿X轴方向或Y轴方向往复运动的移动平台，移动平台的上端设置有环形的收集槽，收集槽与收集装置相连，收集槽内设置有旋转平台，旋转平台的上端设置有与上夹具配合的模块式夹具，气体控制系统和控制罩相连。本发明往复摩擦的基础上同时进行旋转式摩擦，可以根据不同原料以及要求进行压力的突变，使得到的产品满足颗粒大小以及核壳结构的层数，保证产品的多样性以及工作效率。
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公开(公告)号：CN112077673A
公开(公告)日：2020-12-15
申请号：CN202010858395.4
申请日：2020-08-24
Applicant: 中国地质科学院郑州矿产综合利用研究所 , 中国地质大学(北京)
Abstract: 本发明提出了一种核壳结构的“氧化物‑石墨烯”的加工装置及方法，加工装置包括控制罩、冲洗机构、配料机构、气体控制系统和上夹具，控制罩内设置有应力加载机构，应力加载机构与上夹具相连，上夹具的下方设置有运动台，运动台包括支撑机构，支撑机构的上端设置有可沿X轴方向或Y轴方向往复运动的移动平台，移动平台的上端设置有环形的收集槽，收集槽与收集装置相连，收集槽内设置有旋转平台，旋转平台的上端设置有与上夹具配合的模块式夹具，气体控制系统和控制罩相连。本发明往复摩擦的基础上同时进行旋转式摩擦，可以根据不同原料以及要求进行压力的突变，使得到的产品满足颗粒大小以及核壳结构的层数，保证产品的多样性以及工作效率。
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公开(公告)号：CN118910712A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202410818026.0
申请日：2024-06-24
Applicant: 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院
IPC: C25F1/00
Abstract: 本发明公开一种金刚石微器件内部石墨化层去除方法，包括以下步骤：步骤一：准备纳米电解液，步骤二：将金刚石微器件浸泡于纳米电解液中，搭载纳米电解技术实现对石墨化层的高效去除；步骤三：向电解液中加入对金刚石表面具有选择性腐蚀作用的添加剂；步骤四：设置电解液温度，电流密度和电解时间进行电解；步骤五：冷却金刚石微器件，清洗表面，确保去除电解产物和任何残留的石墨化层。可显著提高金刚石微器件内部石墨化层的去除效率。利用纳米电解颗粒的高活性和大比表面积，实现了对石墨化层的高效、选择性去除，缩短了处理时间，提高了生产效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118900545A
公开(公告)日：2024-11-05
申请号：CN202411153121.X
申请日：2024-08-21
Applicant: 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院
IPC: H05K7/20
Abstract: 本发明公开一种射流微通道散热器，包括：射流孔、横向分布的亲疏水复合微通道、纵向分布的微通道出口、微通道亲水表面和微通道疏水微织构。本发明通过在射流微通道底部制备出亲疏水交替分布的微纳织构，以解决微通道在流动沸腾过程中的气化核心密度低、微通道出口流动稳定性差、流动沸腾压降损失大等问题，将微通道和阵列射流冲击结合起来，不但可以阻碍气泡聚集长大，使得通道内的流动均匀，又能够减小轴向温度梯度，使壁面温度分布更均匀，不但可以降低沸腾换热的临界热通量，还可显著提高沸腾换热系统。
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公开(公告)号：CN118620526A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202310226044.5
申请日：2023-03-10
Applicant: 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院 , 珀丽诗(河南)文化科技有限公司
IPC: C09G1/02
Abstract: 本发明涉及半导体材料抛光液技术领域，具体为一种宽禁带半导体加工用微纳米气泡抛光液。所述的原位形成微纳米气泡的抛光液，是利用高速研磨球在配置好抛光液中相互撞击产生微小气核制备出含大量的微纳米气泡新型的抛光液。包括以下步骤：(1)选择合适的氧化剂、磨料、酸碱调节剂和分散剂配置抛光液，(2)将配置好的抛光液与相应的研磨球放入球磨机中进行球磨。与传统CMP抛光液相比，该方法通过高速研磨球间的撞击力，一方面可降低磨料的粒径并增强其分散性，另一方面可原位产生微纳米气泡增强抛光液的氧化性，提高半导体晶圆表面材料的去除率和表面质量，实现材料高效、超精密、低损伤的抛光。
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公开(公告)号：CN116749074A
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202310766850.1
申请日：2023-06-27
Applicant: 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院 , 珀丽诗(河南)文化科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种改善透光晶圆厚度均匀性的方法及装置，其方法包括以下步骤：步骤一，进行CMP预抛光实验，测得晶圆材料去除率与各区域LED点光源功率及各喷头流量的变化关系；步骤二，采用测厚仪对晶圆膜厚进行多点在线检测；步骤三，根据膜厚监测的结果，对修正区抛光液的分布及LED点光源的功率进行控制，进而改变晶圆局部区域的材料去除率；步骤四，重复步骤二和步骤三，采用PID控制系统进行控制，直至将晶圆厚度均匀性控制在技术要求范围内。根据膜厚的检测结果，可通过调控较厚区域附近的LED点光源的光照强度和温升来提升晶圆CMP抛光的材料去除率，进而改善晶圆膜厚的均匀性。
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公开(公告)号：CN116043162A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202310218362.7
申请日：2023-03-09
Applicant: 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院
Abstract: 本发明公开了一种钛合金切削刀具表面纳米复合结构涂层及其制备方法，具体涉及切削用刀具防护涂层领域。所述涂层包括设置在刀具基底上的致密纳米晶结构金属连接层；在致密纳米晶结构金属连接层上设置的致密纳米晶结构陶瓷梯度过渡层；在致密纳米晶结构陶瓷梯度过渡层上设置的致密CrSiN纳米复合结构强化支撑层；在致密CrSiN纳米复合结构强化支撑层上设置多层周期功能层。本发明提供的纳米复合结构涂层兼具优良的膜‑基结合强度与较高的力学性能，显著减少切削加工过程中涂层的开裂与剥落；多层周期功能层的设置大幅降低了刀具表面的粘着和磨损，提升刀具的切削加工性能，使得涂层刀具的使用寿命比未镀涂层的刀具基底提升10倍以上。
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公开(公告)号：CN115011255B
公开(公告)日：2023-03-17
申请号：CN202210733540.5
申请日：2022-06-27
Applicant: 中国地质大学(北京) , 中国地质大学(北京)郑州研究院
IPC: C09G1/02
Abstract: 一种添加纳米金属的单晶金刚石高精度抛光剂，本发明涉及单晶金刚石抛光剂的制备技术领域。本发明要解决现有方法针对单晶金刚石各向异性，并满足不同原子面抛光需求。抛光剂由包覆石墨烯的纳米金属颗粒、溶剂、分散剂、pH调节剂和表面活性剂合成。在抛光过程中，本发明制备的抛光剂可以催化单晶金刚石石墨化、促进化学效应、削弱机械作用带来的金刚石表面解理剥落、减少大颗粒金刚石磨屑的形成，防止对抛光面造成二次损伤。制备抛光剂颗粒分散性好，能提升单晶金刚石的抛光效率和抛光精度，通过调节抛光剂中纳米金属的种类、成分和含量，满足单晶金刚石不同原子面抛光工艺差异化要求。本发明抛光剂用于单晶金刚石的抛光。
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