一种用于第三代半导体晶体生长的TaC涂层坩埚及制备方法

    公开(公告)号:CN113122918A

    公开(公告)日:2021-07-16

    申请号:CN202110388484.1

    申请日:2021-04-12

    Inventor: 孟凡桂 董天下

    Abstract: 本发明公开一种用于第三代半导体晶体生长的TaC涂层坩埚及制备方法,该TaC涂层坩埚包括基体和TaC涂层,基体为石墨坩埚,TaC涂层生长在石墨坩埚的表面;TaC涂层与基体为反应结合,界面结合强度在3~8MPa之间。TaC涂层与基体为反应结合,界面结合强度高,不易发生脱落;此外,在气象生长条件下,TaC涂层坩埚不易被腐蚀破坏,使用寿命长,制备的晶体不会由于坩埚被破坏而污染。该制备方法利用K2TaF7和金属Ta粉在熔盐介质中发生歧化反应而生成高活性金属原子,该高活性金属原子直接和基体发生反应形成预涂层,经高温处理后在基体表面形成TaC涂层。TaC涂层与基体为反应结合,有效解决了TaC涂层与基体热失配的问题。

    一种白光LED荧光粉及制备方法

    公开(公告)号:CN102634341A

    公开(公告)日:2012-08-15

    申请号:CN201210108733.8

    申请日:2012-04-13

    Inventor: 张新民 孟凡桂

    CPC classification number: Y02B20/181

    Abstract: 本发明公开了一种白光LED荧光粉的制备方法,属于荧光材料领域。该荧光粉的化学组成为8(A1-xEux)O·6Al2O3·2MO3,并符合如下条件:A为Ca、Sr和Ba中的任意一种;M为Mo和W中的任意一种;Eu为发光中心,掺杂位于A位,0.01≤x≤0.10。按照元素摩尔比分别称取原料混合均匀,装入刚玉坩埚中,在一氧化碳的还原气氛中,于1000-1200℃保温6-8小时,将烧结后的产物冷却后研磨,过筛得到LED荧光粉。该荧光粉激发光谱范围宽,发射波长可调,且制备工艺简单,化学性质稳定,发光性能优异,是理想的白光LED荧光粉。

    一种白光LED荧光粉及制备方法

    公开(公告)号:CN102634341B

    公开(公告)日:2013-11-27

    申请号:CN201210108733.8

    申请日:2012-04-13

    Inventor: 张新民 孟凡桂

    CPC classification number: Y02B20/181

    Abstract: 本发明公开了一种白光LED荧光粉的制备方法,属于荧光材料领域。该荧光粉的化学组成为8(A1-xEux)O·6Al2O3·2MO3,并符合如下条件:A为Ca、Sr和Ba中的任意一种;M为Mo和W中的任意一种;Eu为发光中心,掺杂位于A位,0.01≤x≤0.10。按照元素摩尔比分别称取原料混合均匀,装入刚玉坩埚中,在一氧化碳的还原气氛中,于1000-1200℃保温6-8小时,将烧结后的产物冷却后研磨,过筛得到LED荧光粉。该荧光粉激发光谱范围宽,发射波长可调,且制备工艺简单,化学性质稳定,发光性能优异,是理想的白光LED荧光粉。

    一种用于第三代半导体晶体生长的TaC涂层坩埚及制备方法

    公开(公告)号:CN113122918B

    公开(公告)日:2022-05-17

    申请号:CN202110388484.1

    申请日:2021-04-12

    Inventor: 孟凡桂 董天下

    Abstract: 本发明公开一种用于第三代半导体晶体生长的TaC涂层坩埚及制备方法,该TaC涂层坩埚包括基体和TaC涂层,基体为石墨坩埚,TaC涂层生长在石墨坩埚的表面;TaC涂层与基体为反应结合,界面结合强度在3~8MPa之间。TaC涂层与基体为反应结合,界面结合强度高,不易发生脱落;此外,在气象生长条件下,TaC涂层坩埚不易被腐蚀破坏,使用寿命长,制备的晶体不会由于坩埚被破坏而污染。该制备方法利用K2TaF7和金属Ta粉在熔盐介质中发生歧化反应而生成高活性金属原子,该高活性金属原子直接和基体发生反应形成预涂层,经高温处理后在基体表面形成TaC涂层。TaC涂层与基体为反应结合,有效解决了TaC涂层与基体热失配的问题。

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