公开(公告)号：CN1439120A

公开(公告)日：2003-08-27

申请号：CN01811689.2

申请日：2001-03-27

Applicant: 东进半导体化学株式会社

Inventor： 朴美仙 ,  金钟民 ,  朴兑濬 ,  姜哲佑 ,  任润吉

IPC: G03F7/42

CPC classification number: G01N21/359 ,  G01N21/3563 ,  G03F7/422 ,  G03F7/425 ,  G03F7/426 ,  H01L21/31133

Abstract: 在对制造半导体装置或液晶显示器的光致抗蚀剂剥离过程进行控制的控制方法中，首先利用NIR分光计对光致抗蚀剂层剥离过程中使用的剥离剂成分进行分析。然后，通过将分析的成分与基准成分进行比较，确定剥离剂的状态。如果剥离剂的寿命已经结束，则利用新剥离剂替换该剥离剂。相反，如果该剥离剂的寿命还没有结束，则将该剥离剂输送到下一个光致抗蚀剂剥离过程。还可以将该分析技术以同样方式应用于光致抗蚀剂剥离剂再生过程。

公开(公告)号：CN100474125C

公开(公告)日：2009-04-01

申请号：CN01811689.2

申请日：2001-03-27

Applicant: 东进半导体化学株式会社

Inventor： 朴美仙 ,  金钟民 ,  朴兑濬 ,  姜哲佑 ,  任润吉

IPC: G03F7/42

CPC classification number: G01N21/359 ,  G01N21/3563 ,  G03F7/422 ,  G03F7/425 ,  G03F7/426 ,  H01L21/31133

Abstract: 在对制造半导体装置或液晶显示器的光致抗蚀剂剥离过程进行控制的控制方法中，首先利用NIR分光计对光致抗蚀剂层剥离过程中使用的剥离剂成分进行分析。然后，通过将分析的成分与基准成分进行比较，确定剥离剂的状态。如果剥离剂的寿命已经结束，则利用新剥离剂替换该剥离剂。相反，如果该剥离剂的寿命还没有结束，则将该剥离剂输送到下一个光致抗蚀剂剥离过程。还可以将该分析技术以同样方式应用于光致抗蚀剂剥离剂再生过程。