炭黑水性分散体及其制造方法

    公开(公告)号:CN101198658A

    公开(公告)日:2008-06-11

    申请号:CN200680021888.0

    申请日:2006-05-26

    Abstract: 本发明提供一种在水性介质中的分散性优异的,适于作为具有包括用于喷墨印刷机的用途的水性黑色油墨的炭黑水性分散体及其制造方法。该炭黑水性分散体,其特征在于,是由炭黑颜料在水性介质中分散而构成,该炭黑颜料为用碱性氨基酸中和液相氧化处理炭黑所生成的酸性基团,使酸性基团的氢的一部分或全部被碱性氨基酸碱所取代的炭黑颜料。该炭黑水性分散体的制造方法,其特征在于,液相氧化处理炭黑,接下来,除去淤浆中的还原性盐,然后,用碱性氨基酸中和,使酸性基团的氢的一部分或全部被碱性氨基酸碱所取代,从而制成碱性氨基酸盐化合物,然后,进行精制。

    炭黑水性分散体及其制造方法

    公开(公告)号:CN101198658B

    公开(公告)日:2011-08-31

    申请号:CN200680021888.0

    申请日:2006-05-26

    Abstract: 本发明提供一种在水性介质中的分散性优异的,适于作为具有包括用于喷墨印刷机的用途的水性黑色油墨的炭黑水性分散体及其制造方法。该炭黑水性分散体,其特征在于,是由炭黑颜料在水性介质中分散而构成,该炭黑颜料为用碱性氨基酸中和液相氧化处理炭黑所生成的酸性基团,使酸性基团的氢的一部分或全部被碱性氨基酸碱所取代的炭黑颜料。该炭黑水性分散体的制造方法,其特征在于,液相氧化处理炭黑,接下来,除去淤浆中的还原性盐,然后,用碱性氨基酸中和,使酸性基团的氢的一部分或全部被碱性氨基酸碱所取代,从而制成碱性氨基酸盐化合物,然后,进行精制。

    用于半导体密封材料的炭黑着色剂及其制造方法

    公开(公告)号:CN101001925A

    公开(公告)日:2007-07-18

    申请号:CN200580026974.6

    申请日:2005-08-10

    Inventor: 户田繁美

    Abstract: 本发明提供了一种适用于半导体密封材料的黑色着色剂的炭黑着色剂及其制造方法,该炭黑着色剂在树脂组分中表现出优异的分散性,且能够形成具有高体积电阻率和优异遮蔽特性的半导体密封材料。该炭黑着色剂具有如下结构,通过使用过硫酸钠或过硫酸铵的湿氧化在炭黑颗粒表面上形成的羧基的末端氢被氨取代,且pH为3.0至8.0。该方法包括,将炭黑在过硫酸钠水溶液或过硫酸铵水溶液中进行湿氧化,通过去离子作用除去还原盐,加入氨水溶液以调节浆液的pH为4.0至12.0,引起炭黑与氨反应,通过从浆液中除去杂质而纯化浆液,并将炭黑干燥及磨碎。优选在湿氧化前,将炭黑预先经干氧化,且当对炭黑进行湿氧化时加入表面活性剂。

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