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公开(公告)号：CN101193751B
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：CN200580050033.6
申请日：2005-07-01
Applicant: 东洋纺织株式会社
IPC: B32B27/34
CPC classification number: H05K3/4626 , B32B15/08 , H05K3/386 , H05K2201/0154 , H05K2201/0195 , Y10T428/24628 , Y10T428/31678
Abstract: 粘合板包含作为衬底膜以及形成在所述衬底膜的至少一个表面上的粘合层。所述衬底膜由在300℃热处理之后的卷曲度为不大于10％的聚酰亚胺膜制成。本发明的粘合板可以用于暴露于尤其是高温的电子零件等，因为其由高温引起的翘曲和变形得到了抑制，并且能够改善电子零件等的质量和收率。
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公开(公告)号：CN101193751A
公开(公告)日：2008-06-04
申请号：CN200580050033.6
申请日：2005-07-01
Applicant: 东洋纺织株式会社
IPC: B32B27/34
CPC classification number: H05K3/4626 , B32B15/08 , H05K3/386 , H05K2201/0154 , H05K2201/0195 , Y10T428/24628 , Y10T428/31678
Abstract: 粘合板包含作为衬底膜以及形成在所述衬底膜的至少一个表面上的粘合层。所述衬底膜由在300℃热处理之后的卷曲度为不大于10％的聚酰亚胺膜制成。本发明的粘合板可以用于暴露于尤其是高温的电子零件等，因为其由高温引起的翘曲和变形得到了抑制，并且能够改善电子零件等的质量和收率。
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公开(公告)号：CN102256785B
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN200980151211.2
申请日：2009-12-16
Applicant: 东洋纺织株式会社
IPC: B32B17/10 , B32B7/06 , B32B15/088 , B32B18/00
CPC classification number: B32B17/064 , B32B7/06 , B32B9/005 , B32B9/045 , B32B15/08 , B32B27/16 , B32B27/18 , B32B27/281 , B32B2264/10 , B32B2264/102 , B32B2264/104 , B32B2307/304 , B32B2307/306 , B32B2307/538 , B32B2307/54 , B32B2307/546 , B32B2307/714 , B32B2307/732 , B32B2307/734 , B32B2379/08 , B32B2457/08 , H05K1/0346 , H05K3/007 , H05K3/389 , H05K2201/0154 , H05K2203/016
Abstract: 本发明提供能够进行精密的位置确定，制作后的剥离顺利，并且制作过程中不会剥离的用于器件制作的层叠体。一种层叠体，其为玻璃板、硅晶片等无机层，与通过芳香族四羧酸类和芳香族二胺类的反应得到的聚酰亚胺的线膨胀系数在规定的范围内的膜在不介由粘接剂层的情况下层叠而成的层叠体，层叠体的膜与无机层的180度剥离强度在规定范围内。
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公开(公告)号：CN101193750A
公开(公告)日：2008-06-04
申请号：CN200580050032.1
申请日：2005-07-01
Applicant: 东洋纺织株式会社
IPC: B32B27/34
CPC classification number: H05K1/0346 , H05K3/181 , H05K3/388 , H05K2201/0154 , H05K2201/0317 , H05K2201/0326 , H05K2203/065 , Y10T428/31681 , Y10T428/31721
Abstract: 薄膜层压的聚酰亚胺膜包含基底膜和至少在所述基底膜的一个表面上形成的薄膜层。所述基底膜由表现出在300℃热处理后的卷曲度不大于10％的聚酰亚胺膜制成。使用这种薄膜层压的聚酰亚胺膜作为暴露于高温下的电子零件如太阳能电池、电容器等的基底，防止了在生产过程中容易产生翘曲和畸变的问题，并且可以提高电子零件的质量和产量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101193750B
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200580050032.1
申请日：2005-07-01
Applicant: 东洋纺织株式会社
IPC: B32B27/34
CPC classification number: H05K1/0346 , H05K3/181 , H05K3/388 , H05K2201/0154 , H05K2201/0317 , H05K2201/0326 , H05K2203/065 , Y10T428/31681 , Y10T428/31721
Abstract: 薄膜层压的聚酰亚胺膜包含基底膜和至少在所述基底膜的一个表面上形成的薄膜层。所述基底膜由表现出在300℃热处理后的卷曲度不大于10％的聚酰亚胺膜制成。使用这种薄膜层压的聚酰亚胺膜作为暴露于高温下的电子零件如太阳能电池、电容器等的基底，防止了在生产过程中容易产生翘曲和畸变的问题，并且可以提高电子零件的质量和产量。
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公开(公告)号：CN1476367A
公开(公告)日：2004-02-18
申请号：CN01819489.3
申请日：2001-11-28
Applicant: 东洋纺织株式会社
IPC: B24B37/00 , B24D11/00 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/26 , B24B37/22 , B24D3/28 , B24D11/001 , B24D11/008
Abstract: 一种研磨垫，稳定且以高的研磨速度对半导体装置用的硅晶片、存储盘、磁盘、光学透镜等要求高度表面平坦性的材料进行平坦化处理。本发明提供薄板化、槽等的表面加工等生产容易，厚度精度优异、研磨速度高、可得到均匀的研磨速度的研磨垫子；以及没有由个体差异的质量偏差，可容易改变加工图案，可进行微细加工，形成凹凸时不会有毛边的研磨垫子；以及可对应各种被研磨材料，能够把磨粒混合为极其高浓度、且即使分散磨粒，由于磨粒凝聚而引起的划痕产生少的研磨垫。做成研磨层由通过能量线固化的固化性组合物形成，并且上述研磨层表面具有通过光刻法形成的凹凸的研磨垫。做成分散有磨粒的研磨层树脂是具有20～1500eq/ton离子基的树脂的研磨垫。
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公开(公告)号：CN102256785A
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN200980151211.2
申请日：2009-12-16
Applicant: 东洋纺织株式会社
IPC: B32B17/10 , B32B7/06 , B32B15/088 , B32B18/00
CPC classification number: B32B17/064 , B32B7/06 , B32B9/005 , B32B9/045 , B32B15/08 , B32B27/16 , B32B27/18 , B32B27/281 , B32B2264/10 , B32B2264/102 , B32B2264/104 , B32B2307/304 , B32B2307/306 , B32B2307/538 , B32B2307/54 , B32B2307/546 , B32B2307/714 , B32B2307/732 , B32B2307/734 , B32B2379/08 , B32B2457/08 , H05K1/0346 , H05K3/007 , H05K3/389 , H05K2201/0154 , H05K2203/016
Abstract: 本发明提供能够进行精密的位置确定，制作后的剥离顺利，并且制作过程中不会剥离的用于器件制作的层叠体。一种层叠体，其为玻璃板、硅晶片等无机层，与通过芳香族四羧酸类和芳香族二胺类的反应得到的聚酰亚胺的线膨胀系数在规定的范围内的膜在不介由粘接剂层的情况下层叠而成的层叠体，层叠体的膜与无机层的180度剥离强度在规定范围内。
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公开(公告)号：CN100549072C
公开(公告)日：2009-10-14
申请号：CN200480038951.2
申请日：2004-12-27
Applicant: 东洋纺织株式会社
Abstract: [问题]为了提供一种聚酰亚胺薄膜，其适合用作电子元件的基材薄膜，在耐热性、刚性、高频特性方面优异并且还在热变形稳定性方面优异，使得即使当加热时在其上叠加各种功能层时也不会发生由于卷曲导致的故障。[解决问题的手段]一种聚酰亚胺薄膜，其根据X射线衍射方法测量的沿面取向系数为0.79-0.89，该薄膜的一个主表面的表面沿面取向度与薄膜另一个主表面的表面沿面取向度之差不超过2，并且其中所述薄膜的卷曲度不超过5%，其是通过将具有特定酰亚胺化率的聚酰亚胺前体薄膜酰亚胺化得到的。
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公开(公告)号：CN1898308A
公开(公告)日：2007-01-17
申请号：CN200480038951.2
申请日：2004-12-27
Applicant: 东洋纺织株式会社
Abstract: 问题：为了提供一种聚酰亚胺薄膜，其适合用作电子元件的基材薄膜，在耐热性、刚性、高频特性方面优异并且还在热变形稳定性方面优异，使得即使当加热时在其上叠加各种功能层时也不会发生由于卷曲导致的故障。解决问题的手段：一种聚酰亚胺薄膜，其根据X射线衍射方法测量的沿面取向系数为0.79－0.89，该薄膜的一个主表面的表面沿面取向度与薄膜另一个主表面的表面沿面取向度之差不超过2，并且其中所述薄膜的卷曲度不超过5％，其是通过将具有特定酰亚胺化率的聚酰亚胺前体薄膜酰亚胺化得到的。
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