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公开(公告)号：CN101942670A
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN201010275685.2
申请日：2004-12-17
Applicant: 东洋炭素株式会社
Abstract: 本发明提供一种气体生成装置，通过延长过滤器的使用寿命而能够长时间保护压力调整阀。本发明的气体生成装置是一种将电解槽内的电解液电解生成气体的气体生成装置，包括：将从气体生成装置中生成的不要成分除去的除去塔，将从上述除去塔排放的雾沫除去的过滤器，以及调整上述电解槽内的压力的压力调整阀，上述过滤器插入上述除去塔的下游，上述压力调整阀配置在上述过滤器的下游。
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公开(公告)号：CN102834549A
公开(公告)日：2012-12-19
申请号：CN201180018767.1
申请日：2011-03-23
Applicant: 东洋炭素株式会社
Abstract: 从设置于阳极室的液面传感器向控制装置提供输出信号。该输出信号表示阳极室内的电解浴的液面高度是否高于基准高度。控制装置在阳极室内的电解浴的液面高度高于基准高度时令变换器回路中产生的压气机的驱动电压的频率上升既定值的量。由此，压气机所配备的马达的旋转速度上升，从压气机排出的氢气的排出压上升，阴极室内的压力下降。其结果，阴极室内的电解浴的液面高度上升并且阳极室内的电解浴的液面高度变得低于基准高度。
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公开(公告)号：CN101379592A
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：CN200780005002.8
申请日：2007-02-07
Applicant: 东洋炭素株式会社 , 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: F17D1/04 , C01B7/19 , F17C2250/032 , F17C2270/0518 , H01L21/67017 , H01L21/67276
Abstract: 氟气发生装置与半导体制造装置(3a～3e)经由气体供给系统(2)连接，该气体供给系统(2)具有能够贮藏规定量的由现场氟气发生装置(1a～1e)发生的氟气的贮藏罐(12)，当现场氟气发生装置(1a～1e)中1个以上停止时，通过从贮藏有规定量的氟气的贮藏罐(12)向半导体制造装置(3a～3e)供给氟气，从而维持半导体制造装置(3a～3e)的运用。由此，能够安全稳定地将在氟气发生装置发生的氟气向半导体制造装置供给，并且获得在半导体制造中价格性能比也优越的半导体制造设备。
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公开(公告)号：CN101248216A
公开(公告)日：2008-08-20
申请号：CN200680030920.1
申请日：2006-06-28
Applicant: 东洋炭素株式会社
Abstract: 一种氟系气体产生装置，在具备阳极室和阴极室的电解槽内具有由含有氟化氢的混合熔融盐构成的电解浴，通过对前述电解浴进行电解来产生含氟的气体，该氟系气体产生装置具有：原料供给配管，在前述电解槽中到达电解浴中，用于供给电解用原料；常闭型阀，设置在前述原料供给配管的中途；和设置有常开型阀的迂回用配管，将比前述常闭型阀靠向下游侧的前述原料供给配管与前述电解槽的气相部分连接。由此，电解浴不会被吸入到氟系气体产生装置的原料供给配管内，可事先防止在原料供给配管内发生固化。
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公开(公告)号：CN1266031C
公开(公告)日：2006-07-26
申请号：CN200310119692.3
申请日：2003-11-20
Applicant: 东洋炭素株式会社
IPC: C01B7/20
CPC classification number: C25B1/245
Abstract: 目的在于即使在氟气发生装置的HF的供给停止或异常时，也不会使电解液腐蚀上游管路，且管路内不会残留HF。是用来电解由含有氟化氢的混合熔融盐构成的电解液而产生氟气的氟气发生装置，具有：向前述电解液中提供氟化氢气体的氟化氢气体供给管路；配置在前述氟化氢气体供给管路上且在前述氟化氢气体的供给停止时关闭的第1自动阀；在前述氟化氢气体的供给停止时，排出残存在前述氟化氢气体供给管路的比前述第1自动阀更下游侧的管路内的氟化氢气体并置换为惰性气体的惰性气体置换机构。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1502548A
公开(公告)日：2004-06-09
申请号：CN200310119692.3
申请日：2003-11-20
Applicant: 东洋炭素株式会社
IPC: C01B7/20
CPC classification number: C25B1/245
Abstract: 目的在于即使在氟气发生装置的HF的供给停止或异常时，也不会使电解液腐蚀上游管路，且管路内不会残留HF。是用来电解由含有氟化氢的混合熔融盐构成的电解液而产生氟气的氟气发生装置，具有：向前述电解液中提供氟化氢气体的氟化氢气体供给管路；配置在前述氟化氢气体供给管路上且在前述氟化氢气体的供给停止时关闭的第1自动阀；在前述氟化氢气体的供给停止时，排出残存在前述氟化氢气体供给管路的比前述第1自动阀更下游侧的管路内的氟化氢气体并置换为惰性气体的惰性气体置换机构。
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公开(公告)号：CN101959594B
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN200980107772.2
申请日：2009-03-06
Applicant: 东洋炭素株式会社
IPC: B01J19/00 , B01D53/68 , C08J7/12 , C23C8/08 , H01L21/3065
CPC classification number: H01L21/6719 , B01J4/008 , H01L21/67017 , H01L21/67109
Abstract: 本发明的表面处理装置(100)具备：稀释气体供给装置(1)，氟气供给装置(2)，混合稀释气体与氟气的混合器(5)，以及采用由混合器(5)生成的混合气体对被处理物进行处理的反应器(6)。由加热器(8)对从稀释气体供给装置供给的稀释气体进行加热，在混合器(5)中混合加热后的稀释气体与从氟气供给装置供给的氟气。混合后的气体向反应器(6)输送。反应器(6)内的气体通过排气装置(207)从反应器(6)导向流路(219、220、221、222)。阀(223、224、225、226)依次打开，通过使用流路(219、220、221、222)，一边调整反应器(6)内的气体的流量一边将反应器(6)内的气体向除害装置(208)输送。
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公开(公告)号：CN102597311A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201080039189.5
申请日：2010-09-02
Applicant: 东洋炭素株式会社
Inventor： 吉本修
IPC: C23C16/455 , C23C16/44 , C25B15/08 , C25B1/24
CPC classification number: C23C16/45561 , F17C5/00 , F17C2205/0142 , F17C2205/0323 , F17C2221/01 , F17C2250/03 , F17C2250/043 , Y10T137/877
Abstract: 氟气发生系统具有多个氟气供给系统以及控制装置。各氟气供给系统含有氟气产生装置。各氟气供给系统与CVD装置组连接。氟气产生装置包含氟气产生部以及缓冲容器。配管上夹设开闭阀。配管的另一端部分支为多个配管。各配管与CVD装置连接。相邻氟气供给系统的配管借助配管相互连接。各配管上夹设有开闭阀。
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公开(公告)号：CN102482790A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080039767.5
申请日：2010-09-02
Applicant: 东洋炭素株式会社
CPC classification number: C25B15/02 , C23F2213/30
Abstract: 电解装置具有电解槽、加热器以及送风机。在电解槽中收纳电解浴。加热器在与电解槽电气地绝缘的状态下设置于电解槽。同样地送风机在与电解槽电气地绝缘的状态下设置于电解槽。通过接通加热器，电解槽的温度上升。此外，通过断开加热器并接通送风机，电解槽的温度下降。通过切换加热器以及送风机的接通以及断开而将电解槽的温度保持为一定。
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公开(公告)号：CN101959594A
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200980107772.2
申请日：2009-03-06
Applicant: 东洋炭素株式会社
IPC: B01J19/00 , B01D53/68 , C08J7/12 , C23C8/08 , H01L21/3065
CPC classification number: H01L21/6719 , B01J4/008 , H01L21/67017 , H01L21/67109
Abstract: 本发明的表面处理装置(100)具备：稀释气体供给装置(1)，氟气供给装置(2)，混合稀释气体与氟气的混合器(5)，以及采用由混合器(5)生成的混合气体对被处理物进行处理的反应器(6)。由加热器(8)对从稀释气体供给装置供给的稀释气体进行加热，在混合器(5)中混合加热后的稀释气体与从氟气供给装置供给的氟气。混合后的气体向反应器(6)输送。反应器(6)内的气体通过排气装置(207)从反应器(6)导向流路(219、220、221、222)。阀(223、224、225、226)依次打开，通过使用流路(219、220、221、222)，一边调整反应器(6)内的气体的流量一边将反应器(6)内的气体向除害装置(208)输送。
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