公开(公告)号：CN100549824C

公开(公告)日：2009-10-14

申请号：CN200510056507.X

申请日：2005-03-18

Applicant: 东曹株式会社 ,  大日本屏幕制造株式会社

Inventor： 原靖 ,  高桥史治 ,  林博明

IPC: G03F7/004 ,  H01L21/00 ,  C09K13/08

CPC classification number: H01L21/31111 ,  H01L21/67086

Abstract: 本发明涉及的蚀刻用组合物是用于把含有铪化合物的绝缘膜进行蚀刻的蚀刻用组合物，其特征在于，包括氟化物及氯化物。另外，本发明涉及的基本蚀刻处理方法，是把基板上形成的铪化合物被膜，采用蚀刻用组合物进行蚀刻的基板蚀刻处理方法，作为上述蚀刻用组合物是含有氟化物及氯化物的组合物。

公开(公告)号：CN1673862A

公开(公告)日：2005-09-28

申请号：CN200510056507.X

申请日：2005-03-18

Applicant: 东曹株式会社 ,  大日本屏幕制造株式会社

Inventor： 原靖 ,  高桥史治 ,  林博明

IPC: G03F7/004 ,  H01L21/00 ,  C09K13/08

CPC classification number: H01L21/31111 ,  H01L21/67086

Abstract: 本发明涉及的蚀刻用组合物是用于把含有铪化合物的绝缘膜进行蚀刻的蚀刻用组合物，其特征在于，包括氟化物及氯化物。另外，本发明涉及的基本蚀刻处理方法，是把基板上形成的铪化合物被膜，采用蚀刻用组合物进行蚀刻的基板蚀刻处理方法，作为上述蚀刻用组合物是含有氟化物及氯化物的组合物。