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发明公开
新型化合物、共轭高分子及其制造方法、制膜用组合物、有机薄膜、以及有机半导体元件审中-实审

公开(公告)号：CN119053608A

公开(公告)日：2024-11-29

申请号：CN202380035474.7

申请日：2023-04-24

Applicant: 东曹株式会社 , 公益财团法人相模中央化学研究所

Inventor： 山县拓也 , 巳上幸一郎 , 花村仁嗣 , 胁冈正幸 , 宫下真人 , 渡边真人 , 奥慎也

IPC: C07D513/04 , C08G61/12 , H01L29/786 , H10K85/10

Abstract: 本公开的化合物是由下述通式(1)表示的化合物。[化学式1]#imgabs0#

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