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公开(公告)号:CN102759544A
公开(公告)日:2012-10-31
申请号:CN201210234394.8
申请日:2012-07-06
Applicant: 东南大学
IPC: G01N25/20
Abstract: 一种大功率碳化硅二极管热阻测试方法,将放置有待测器件的绝缘基板放置在温度控制箱内,并将温箱调至25℃,为二极管加一极短暂的单脉冲电流,测试不同脉冲电流大小对应的二极管压降。然后将温箱温度升至125℃,测量不同脉冲电流大小对应的二极管压降,并与25℃下所测数值进行比较,在保证压降有明显变化的前提下取一最大电流。将温箱温度降至25℃,为二极管加直流电流,大小为前面所选取的电流,待结温稳定后测量二极管压降。改变温箱温度,然后以脉冲电流测试此时二极管的压降,直至某一温度下二极管的压降与灌直流时二极管上压降相等,我们就认为此时温箱的温度即为等效结温。根据等效结温利用热阻计算公式求出二极管的热阻。
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公开(公告)号:CN102759544B
公开(公告)日:2014-04-16
申请号:CN201210234394.8
申请日:2012-07-06
Applicant: 东南大学
IPC: G01N25/20
Abstract: 一种大功率碳化硅二极管热阻测试方法,将放置有待测器件的绝缘基板放置在温度控制箱内,并将温箱调至25℃,为二极管加一极短暂的单脉冲电流,测试不同脉冲电流大小对应的二极管压降。然后将温箱温度升至125℃,测量不同脉冲电流大小对应的二极管压降,并与25℃下所测数值进行比较,在保证压降有明显变化的前提下取一最大电流。将温箱温度降至25℃,为二极管加直流电流,大小为前面所选取的电流,待结温稳定后测量二极管压降。改变温箱温度,然后以脉冲电流测试此时二极管的压降,直至某一温度下二极管的压降与灌直流时二极管上压降相等,我们就认为此时温箱的温度即为等效结温。根据等效结温利用热阻计算公式求出二极管的热阻。
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公开(公告)号:CN102832232B
公开(公告)日:2014-12-10
申请号:CN201210289462.0
申请日:2012-08-14
Applicant: 东南大学
Abstract: 一种高维持电压的可控硅横向双扩散金属氧化物半导体管,包括:N型衬底,在N型衬底上设有埋氧,在埋氧上设有N型外延层,在N型外延层的内部设有N型缓冲阱和P型体区,在N型缓冲阱内设有P型阳区和N型体接触区,在P型体区中设有N型阴区和P型体接触区,在N型外延层的表面设有栅氧化层和场氧化层,在N型阴区和P型体接触区表面设有浅P型阱区,在栅氧化层的表面设有多晶硅栅,其特征在于,在P型阳区和N型体接触区正下方设有深N型阱区,在浅P型阱区正下方设有深P型阱区,这两个区域均能有效地抑制载流子双注入效应,使得在漂移区中自由载流子中和的数目减少,从而提高了器件维持电压,降低了泄放静电过程中闩锁发生的风险。
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公开(公告)号:CN102832232A
公开(公告)日:2012-12-19
申请号:CN201210289462.0
申请日:2012-08-14
Applicant: 东南大学
Abstract: 一种高维持电压的可控硅横向双扩散金属氧化物半导体管,包括:N型衬底,在N型衬底上设有埋氧,在埋氧上设有N型外延层,在N型外延层的内部设有N型缓冲阱和P型体区,在N型缓冲阱内设有P型阳区和N型体接触区,在P型体区中设有N型阴区和P型体接触区,在N型外延层的表面设有栅氧化层和场氧化层,在N型阴区和P型体接触区表面设有浅P型阱区,在栅氧化层的表面设有多晶硅栅,其特征在于,在P型阳区和N型体接触区正下方设有深N型阱区,在浅P型阱区正下方设有深P型阱区,这两个区域均能有效地抑制载流子双注入效应,使得在漂移区中自由载流子中和的数目减少,从而提高了器件维持电压,降低了泄放静电过程中闩锁发生的风险。
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