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公开(公告)号：CN116547784A
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN202180083075.9
申请日：2021-11-18
IPC: H01L21/3065
Abstract: 提供一种耐等离子体侵蚀性优异、能够长期保护等离子体蚀刻装置的构件不受等离子体侵蚀的影响、有助于设备的稳定生产、构件的长寿命化的喷镀覆膜。作为本发明的一个方式的喷镀材料由复合化物形成，所述复合化物以40mol％以上且80mol％以下的比例包含稀土氟化物，以10mol％以上且40mol％以下的比例包含氟化镁，以0mol％以上且40mol％以下的比例包含氟化钙。
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