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公开(公告)号：CN219689816U
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202321089802.5
申请日：2023-05-08
Applicant: 东华大学
IPC: C23C4/134
Abstract: 本实用新型公开了一种无内壁沉积的等离子体射流装置，与电源系统以及气路系统相连，其特征在于，所述等离子体射流装置包括射流外管，射流外管上设有气路接口一以及气路接口二，射流外管内设有中空的金属内电极，金属内电极的顶端设有气路接口三；气路接口一、气路接口二及气路接口三连接气路系统；射流外管的底部外套设有环状外电极，环状外电极与电源系统相连。本实用新型通过分散装置将反应性单体引出射流装置，利用等离子体产生的后辉光区部分进行裂解，有效地避免了单体反应后对射流装置内壁的沉积作用。本实用新型提供的射流装置不会随着放电时间的增加，放电的特性发生变化，有利于稳定沉积薄膜的厚度、成分等。
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