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公开(公告)号：CN1804114A
公开(公告)日：2006-07-19
申请号：CN200510092786.5
申请日：2005-08-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 株式会社堀场制作所
IPC: C23C16/00 , C23C16/455 , C23C16/52 , C23C16/34 , H01L21/205 , H01L21/66
CPC classification number: C23C16/4405 , C23C16/4412 , Y02C20/30 , Y02P70/605
Abstract: 本发明提供一种半导体处理用的成膜装置和该装置的使用方法，它能够以最佳的清洁时间进行清洁。本发明的半导体处理用的成膜装置，包括：清洁气体供给系统(17)、浓度测定部(27)、以及信息处理部(102)。清洁气体供给系统(17)向反应室内供给，从反应室(2)的内面去除来源于成膜气体的副生成物膜的用于清洁处理的清洁气体。浓度测定部(27)设置在排气系统(GE)，用于监控从反应室(2)排出的排出气体所包含的预定成分的浓度。信息处理部(102)比较在浓度测定部(27)获得的测定值和预设定值，决定清洁处理的结束点。
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公开(公告)号：CN1804114B
公开(公告)日：2010-09-22
申请号：CN200510092786.5
申请日：2005-08-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 株式会社堀场制作所
IPC: C23C16/00 , C23C16/455 , C23C16/52 , C23C16/34 , H01L21/205 , H01L21/66
CPC classification number: C23C16/4405 , C23C16/4412 , Y02C20/30 , Y02P70/605
Abstract: 本发明提供一种半导体处理用的成膜装置和该装置的使用方法，它能够以最佳的清洁时间进行清洁。本发明的半导体处理用的成膜装置，包括：清洁气体供给系统(17)、浓度测定部(27)、以及信息处理部(102)。清洁气体供给系统(17)向反应室内供给，从反应室(2)的内面去除来源于成膜气体的副生成物膜的用于清洁处理的清洁气体。浓度测定部(27)设置在排气系统(GE)，用于监控从反应室(2)排出的排出气体所包含的预定成分的浓度。信息处理部(102)比较在浓度测定部(27)获得的测定值和预设定值，决定清洁处理的结束点。
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公开(公告)号：CN100570981C
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：CN200610008224.2
申请日：2006-02-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H02J4/00 , Y04S20/224
Abstract: 本发明提供一种多个电力使用系统的动作控制装置，从电力供给设备向电力使用系统供给电力，对各个电力使用系统的电力消耗图形和动作中的电力使用系统的电力消耗图形进行加法运算求预定综合电力消耗图形。其次把对于已进行了动作开始要求的电力使用系统以假定的动作开始时间为基准所求得的电力消耗图形加到预定综合电力消耗图形求假定综合电力消耗图形。比较假定综合电力消耗图形和电力供给设备的设定容许电力进行，使电力消耗图形的假定的动作开始时刻沿着时间轴延迟直到不超过设定容许电力，把假定综合电力消耗图形所表示的电力值的全体小于设定容许电力时的假定动作开始时刻定为动作开始预定时刻，在变为该动作开始预定时刻时输出动作许可。
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公开(公告)号：CN1825731A
公开(公告)日：2006-08-30
申请号：CN200610008224.2
申请日：2006-02-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H02J4/00 , Y04S20/224
Abstract: 本发明提供一种多个电力使用系统的动作控制装置，从电力供给设备向电力使用系统供给电力，对各个电力使用系统的电力消耗图形和动作中的电力使用系统的电力消耗图形进行加法运算求预定综合电力消耗图形。其次把对于已进行了动作开始要求的电力使用系统以假定的动作开始时间为基准所求得的电力消耗图形加到预定综合电力消耗图形求假定综合电力消耗图形。比较假定综合电力消耗图形和电力供给设备的设定容许电力进行，使电力消耗图形的假定的动作开始时刻沿着时间轴延迟直到不超过设定容许电力，把假定综合电力消耗图形所表示的电力值的全体小于设定容许电力时的假定动作开始时刻定为动作开始预定时刻，在变为该动作开始预定时刻时输出动作许可。
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