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公开(公告)号：CN112863987A
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN202011309494.3
申请日：2020-11-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供等离子体处理装置和气体导入方法。自腔室的侧壁向等离子体处理空间以不同的角度导入气体。该等离子体处理装置包括：腔室，具有侧壁和由所述侧壁包围的等离子体处理空间；第1侧部气体导入管线和第2侧部气体导入管线，构成为自所述侧壁向所述等离子体处理空间导入气体，所述第1侧部气体导入管线包括在所述侧壁的周围对称排列的多个第1侧部气体喷射器，所述多个第1侧部气体喷射器分别构成为向所述等离子体处理空间内以第1方向导入气体，所述第2侧部气体导入管线包括在所述侧壁的周围对称排列的多个第2侧部气体喷射器，所述多个第2侧部气体喷射器分别构成为向所述等离子体处理空间内以与所述第1方向不同的第2方向导入气体。
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