公开(公告)号：CN119465097A

公开(公告)日：2025-02-18

申请号：CN202411490145.4

申请日：2019-11-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 藤里敏章 ,  望月隆 ,  鸟屋大辅 ,  铃木公贵 ,  鲁和俊

IPC: C23C16/458 ,  C23C16/455 ,  C23C16/50

Abstract: 本发明提供基板保持机构、成膜装置及成膜方法。该基板保持机构能够在利用等离子CVD或等离子ALD成膜导电性膜时静电吸附被处理基板，该成膜装置使用了该基板保持机构。基板保持机构包括：载物台，其由电介质构成，用于支承被处理基板；吸附电极，其设于载物台内；以及加热器，其加热载物台，利用约翰逊·拉别克力将被处理基板静电吸附于载物台的表面，载物台具有：密合区域，其呈环状，位于载物台的表面的与被处理基板的外周相对应的位置，与被处理基板密合，而具有阻止用于成膜导电性膜的原料气体迂回到所述被处理基板的背面侧的功能；以及槽部，其呈环状设于载物台的表面的比密合区域靠外侧的部分，能够累积由原料气体生成的导电性沉积膜。

公开(公告)号：CN111218671A

公开(公告)日：2020-06-02

申请号：CN201911173253.8

申请日：2019-11-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 藤里敏章 ,  望月隆 ,  鸟屋大辅 ,  铃木公贵 ,  鲁和俊

IPC: C23C16/458 ,  C23C16/455 ,  C23C16/50

Abstract: 本发明提供基板保持机构和成膜装置。该基板保持机构能够在利用等离子CVD或等离子ALD成膜导电性膜时静电吸附被处理基板，该成膜装置使用了该基板保持机构。基板保持机构包括：载物台，其由电介质构成，用于支承被处理基板；吸附电极，其设于载物台内；以及加热器，其加热载物台，利用约翰逊·拉别克力将被处理基板静电吸附于载物台的表面，载物台具有：密合区域，其呈环状，位于载物台的表面的与被处理基板的外周相对应的位置，与被处理基板密合，而具有阻止用于成膜导电性膜的原料气体迂回到所述被处理基板的背面侧的功能；以及槽部，其呈环状设于载物台的表面的比密合区域靠外侧的部分，能够累积由原料气体生成的导电性沉积膜。