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公开(公告)号:CN115307773A
公开(公告)日:2022-11-08
申请号:CN202210463006.7
申请日:2022-04-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 系统具备:第1光学部,构成为,向测量对象物射出光,并且使来自测量对象物的第1干涉光入射;第2光学部,构成为,向构成为相对于温度变动而光路长为一定的基准物体射出光,并且使来自基准物体的第2干涉光入射;分光器,与第1光学部及第2光学部连接,使第1干涉光及第2干涉光入射;以及控制部,与分光器连接;控制部根据基于入射到规定温度环境下的分光器的第2干涉光计算的基准物体的测量光路长和预先取得的基准物体的基准光路长,计算规定温度环境下的测量光路长相对于基准光路长的变动率;将基于在规定温度环境下入射到分光器的第1干涉光计算的测量对象物的光路长基于变动率修正。
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公开(公告)号:CN113390352A
公开(公告)日:2021-09-14
申请号:CN202110244840.2
申请日:2021-03-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种光干涉系统和基板处理装置。提供通过简易的结构来测量测定对象物的物理性质的技术。在一个例示性的实施方式中,提供一种光干涉系统。光干涉系统具备:光源,其构成为产生测定光;光纤,其构成为传输测定光;以及测量部。光纤具有单模光纤、多模光纤、以及将单模光纤和多模光纤连接的连接部。光纤的顶端由多模光纤构成。光纤的顶端的端面构成为向测定对象物射出测定光并且被射入来自测定对象物的反射光。测量部构成为基于反射光来测量测定对象物的物理性质。
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