公开(公告)号：CN107615446A

公开(公告)日：2018-01-19

申请号：CN201680029129.2

申请日：2016-05-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 谷藤保 ,  汤浅珠树 ,  川上聪

IPC: H01L21/02

Abstract: 处理系统具备1个以上的处理单元(20)。各处理单元(20)具有多个处理腔室(22)和公用模块(30)。各处理腔室(22)使用所供给的处理气体来对被处理体进行处理。公用模块(30)包括对向多个处理腔室(22)分别供给的处理气体的流量进行控制的流量控制部(31)。多个处理腔室(22)在上下方向重叠地配置。公用模块(30)配置于多个处理腔室(22)中的、在上下方向相邻的两个处理腔室(22)之间。

公开(公告)号：CN107615446B

公开(公告)日：2020-12-04

申请号：CN201680029129.2

申请日：2016-05-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 谷藤保 ,  汤浅珠树 ,  川上聪

IPC: H01L21/02

Abstract: 处理系统具备1个以上的处理单元(20)。各处理单元(20)具有多个处理腔室(22)和公用模块(30)。各处理腔室(22)使用所供给的处理气体来对被处理体进行处理。公用模块(30)包括对向多个处理腔室(22)分别供给的处理气体的流量进行控制的流量控制部(31)。多个处理腔室(22)在上下方向重叠地配置。公用模块(30)配置于多个处理腔室(22)中的、在上下方向相邻的两个处理腔室(22)之间。