知搜-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

6 records (took 0.02 seconds)

    涂敷处理装置、涂敷处理方法和存储介质
    1.
    发明公开
    涂敷处理装置、涂敷处理方法和存储介质 审中-公开

    公开(公告)号：CN116422496A

    公开(公告)日：2023-07-14

    申请号：CN202310002022.0

    申请日：2023-01-03

    Applicant: 东京毅力科创株式会社

    Inventor： 尾上幸太朗 ,  相良典秀 ,  宫崎文宏

    IPC: B05B12/08 ,  B05B13/02 ,  B05D1/02

    Abstract: 本发明提供能够高精度地检测涂敷处理的不良的涂敷处理装置、涂敷处理方法和存储介质。本发明的一个方式的涂敷处理装置包括支承件、基片保持部、线传感器和光源。支承件具有能够向基片释放功能液的多个释放头。基片保持部能够保持基片，并使基片相对于支承件相对移动。线传感器能够对基片进行拍摄，且宽度比基片的宽度宽。光源为长条形状，能够对线传感器的拍摄区域照射光。而且，线传感器的光轴与基片的正面所成的角度小于光源的光轴与基片的正面所成的角度。

    液滴排出装置、液滴排出方法、程序和计算机存储介质
    2.
    发明授权
    液滴排出装置、液滴排出方法、程序和计算机存储介质 有权

    公开(公告)号：CN108568382B

    公开(公告)日：2022-05-06

    申请号：CN201810181769.6

    申请日：2018-03-06

    Applicant: 东京毅力科创株式会社

    Inventor： 宫崎文宏 ,  宫崎一仁 ,  相良典秀 ,  吉富济 ,  尾上幸太朗

    IPC: B05C5/02 ,  B05C11/10 ,  B05C13/02

    Abstract: 本发明提供液滴排出装置、液滴排出方法、程序和计算机存储介质。在向工件排出功能液的液滴来进行描绘的液滴排出装置中，使从液滴排出头向工件去的液滴的着液精度提高。液滴排出装置(1)包括：载置工件(W)的工作台(40)；向载置于工作台(40)的工件(W)排出液滴的液滴排出头(24)；使工作台(40)在主扫描方向Y轴方向上移动的Y轴直线电动机(13)；检测托架标记(25)的位置的位置检测器(72)；和控制部(150)，其计算由位置检测器(7)检测的检测位置和托架标记(25)的基准位置的在主扫描方向的位置偏离量，基于该位置偏离量，对液滴排出头(24)的液滴的排出时机进行修正。

    监视系统
    3.
    发明公开
    监视系统 审中-实审

    公开(公告)号：CN112786434A

    公开(公告)日：2021-05-11

    申请号：CN202011180793.1

    申请日：2020-10-29

    Applicant: 东京毅力科创株式会社

    Inventor： 金子翔太 ,  大野繁实 ,  相良典秀

    IPC: H01L21/00 ,  H04N7/18

    Abstract: 本发明提供监视用壳体将基片处理装置密闭、将上述密闭的空间用规定的气体气氛充满的密闭装置的监视系统，其包括：将上述壳体与上述基片处理装置之间的空间中的、人能够进入的区域作为检测区域的激光传感器；和控制装置，其基于上述激光传感器的检测结果对上述基片处理装置或上述密闭装置输出控制信号，或者输出基于上述检测结果的通知信号。本发明用壳体将基片处理装置密闭，来提高用规定的气体气氛充满密闭的空间的密闭装置的安全性。

Patent Agency Ranking