公开(公告)号：CN118231325A

公开(公告)日：2024-06-21

申请号：CN202410274298.9

申请日：2018-12-03

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 本田拓巳 ,  山下浩司 ,  田原真二 ,  百武宏展

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。抑制基板从支承槽脱落。实施方式的基板处理装置具备基板保持部和处理槽。基板保持部保持多个基板。处理槽积存处理液。另外，基板保持部具备支承体、升降机构以及限制部。支承体具有多个支承槽，从下方将立起状态的多个基板分别支承于多个支承槽中。升降机构使支承体在处理槽的上方的待机位置与处理槽的内部的处理位置之间升降。限制部与支承体一起利用升降机构升降，限制基板相对于支承体向上方移动。

公开(公告)号：CN110010520B

公开(公告)日：2024-03-26

申请号：CN201811464878.5

申请日：2018-12-03

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 本田拓巳 ,  山下浩司 ,  田原真二 ,  百武宏展

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/673 ,  H01L21/677 ,  H01L21/30

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。抑制基板从支承槽脱落。实施方式的基板处理装置具备基板保持部和处理槽。基板保持部保持多个基板。处理槽积存处理液。另外，基板保持部具备支承体、升降机构以及限制部。支承体具有多个支承槽，从下方将立起状态的多个基板分别支承于多个支承槽中。升降机构使支承体在处理槽的上方的待机位置与处理槽的内部的处理位置之间升降。限制部与支承体一起利用升降机构升降，限制基板相对于支承体向上方移动。

公开(公告)号：CN110010520A

公开(公告)日：2019-07-12

申请号：CN201811464878.5

申请日：2018-12-03

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 本田拓巳 ,  山下浩司 ,  田原真二 ,  百武宏展

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/673 ,  H01L21/677 ,  H01L21/30

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。抑制基板从支承槽脱落。实施方式的基板处理装置具备基板保持部和处理槽。基板保持部保持多个基板。处理槽积存处理液。另外，基板保持部具备支承体、升降机构以及限制部。支承体具有多个支承槽，从下方将立起状态的多个基板分别支承于多个支承槽中。升降机构使支承体在处理槽的上方的待机位置与处理槽的内部的处理位置之间升降。限制部与支承体一起利用升降机构升降，限制基板相对于支承体向上方移动。