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公开(公告)号：CN113529052A
公开(公告)日：2021-10-22
申请号：CN202110371103.9
申请日：2021-04-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/448 , C23C16/455 , C23C16/52 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供能够使成膜开始时的原料气体的流量在短时间内变得稳定的技术。本发明的一方式的原料供给装置包括：向处理容器内供给原料气体的原料供给通路；设置于所述原料供给通路的阀；检测所述原料供给通路内的压力的压力传感器；与所述原料供给通路连接，对所述原料供给通路内的所述原料气体进行排气的原料排气通路；设置于所述原料排气通路，通过调节开度来控制所述原料供给通路内的压力的开度调节机构；和基于所述压力传感器的检测值来调节所述开度调节机构的所述开度的控制部。
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