公开(公告)号：CN100341113C

公开(公告)日：2007-10-03

申请号：CN200410068461.9

申请日：2004-07-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 河野幸弘 ,  田中志信 ,  大塚庆崇

IPC: H01L21/027 ,  B05C5/00 ,  B05C13/00 ,  G03F7/16

Abstract: 喷嘴障碍监视器(168)具有：射出激光束LB以便在规定高度位置沿Y方向大致水平地横穿台(132)上载置的衬底(G)上面附近的激光射出部(222)；隔着台(132)上的衬底(G)并配置在沿Y方向与激光射出部(222)对置的位置的受光部(224)。在涂布处理部(136)中施行抗蚀剂涂布处理时，喷嘴障碍监视器(168)的激光束LB也随着扫描部(212)的扫描驱动而和抗蚀剂喷嘴(134)一起在其前方沿X方向扫描衬底(G)的上方，检查衬底(G)的上面附近是否有障碍物。所以，能够在被处理衬底上面或接近被处理面的高度位置安全地执行使喷嘴扫描的涂布动作。

公开(公告)号：CN1593787A

公开(公告)日：2005-03-16

申请号：CN200410078406.8

申请日：2004-09-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 河野幸弘 ,  田中志信

IPC: B05D1/26 ,  B05D1/40 ,  B05D3/00 ,  B05C5/02 ,  B05C9/08 ,  B05C1/06

Abstract: 本发明提供一种涂布方法，在长条形涂布喷嘴上经常稳定地得到良好的浸润线，从而在被处理基板上形成一定厚度且没有涂布斑的涂布膜。浸润线打底处理部(125)，由多功能单元(172)内的抗蚀液供给部将抗蚀液或稀释抗蚀液供给至从前面渗出抗蚀液那样构成的涂布垫(162)中，并且由多功能单元(172)内的按压部以规定的压力将涂布垫(162)压在喷嘴部背面(160)的下半部，同时，通过直进驱动部(176)的一直前进地驱动，使涂布垫(162)沿着喷嘴纵向(Y方向)从抗蚀液喷嘴(120)的一端按照直线一直地滑动到另一端。

公开(公告)号：CN1577739A

公开(公告)日：2005-02-09

申请号：CN200410068461.9

申请日：2004-07-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 河野幸弘 ,  田中志信 ,  大塚庆崇

IPC: H01L21/027 ,  B05C5/00 ,  B05C13/00 ,  G03F7/16

Abstract: 喷嘴障碍监视器(168)具有：射出激光束LB以便在规定高度位置沿Y方向大致水平地横穿台(132)上载置的衬底(G)上面附近的激光射出部(222)；隔着台(132)上的衬底(G)并配置在沿Y方向与激光射出部(222)对置的位置的受光部(224)。在涂布处理部(136)中施行抗蚀剂涂布处理时，喷嘴障碍监视器(168)的激光束LB也随着扫描部(212)的扫描驱动而和抗蚀剂喷嘴(134)一起在其前方沿X方向扫描衬底(G)的上方，检查衬底(G)的上面附近是否有障碍物。所以，能够在被处理衬底上面或接近被处理面的高度位置安全地执行使喷嘴扫描的涂布动作。

公开(公告)号：CN100542685C

公开(公告)日：2009-09-23

申请号：CN200410078406.8

申请日：2004-09-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 河野幸弘 ,  田中志信

IPC: B05D1/26 ,  B05D1/40 ,  B05D3/00 ,  B05C5/02 ,  B05C9/08 ,  B05C1/06

Abstract: 本发明提供一种涂布方法，在长条形涂布喷嘴上经常稳定地得到良好的浸润线，从而在被处理基板上形成一定厚度且没有涂布斑的涂布膜。浸润线打底处理部(125)，由多功能单元(172)内的抗蚀液供给部将抗蚀液或稀释抗蚀液供给至从前面渗出抗蚀液那样构成的涂布垫(162)中，并且由多功能单元(172)内的按压部以规定的压力将涂布垫(162)压在喷嘴部背面(160)的下半部，同时，通过直进驱动部(176)的一直前进地驱动，使涂布垫(162)沿着喷嘴纵向(Y方向)从抗蚀液喷嘴(120)的一端按照直线一直地滑动到另一端。