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公开(公告)号：CN100541711C
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：CN200710087680.5
申请日：2007-03-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , B65G49/06 , B65G49/05 , B65G49/07 , G05B19/04 , G02F1/1333
Abstract: 本发明提供一种即使基板大型其安全性也高并可避免颗粒物飞散而生产率高且能以想要顺序使退避的多个基板再进出搬送线的基板缓冲装置(36)，包括：具有多级能进出搬送线(A)且上下放置搬送线(A)上搬送的基板(G)的载置台(5a～5f)的搁板部(5)和使搁板部(5)升降以使任意载置台(5a～5f)进出搬送线(A)的升降机构(6)，各载置台(5a～5f)具有进出搬送线(A)时沿搬送方向搬送基板(G)的输送机构(50a～50f)并作为搬送线(A)的一部分工作，将搬送线(A)搬送的基板(G)放置在进出搬送线(A)的载置台(5a)，搁板部(5)由升降机构(6)升降使载置台(5a)与基板(G)从搬送线(A)退避。
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公开(公告)号：CN110875217A
公开(公告)日：2020-03-10
申请号：CN201910789299.6
申请日：2019-08-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种缩短基片处理装置的整体长度的技术。实施方式的基片处理装置包括涂敷线、第一输送部、热处理线和第二输送部。涂敷线在基片上涂敷处理液。第一输送部将基片输送到涂敷线。热处理线与涂敷线并排配置，对涂敷了处理液的基片进行热处理。第二输送部从涂敷线将涂敷了处理液的基片输送到热处理线。第一输送部将进行了热处理的基片从热处理线送出。
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公开(公告)号：CN101710564B
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN200910168563.0
申请日：2009-08-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , G03F7/16 , G03F7/26
Abstract: 本发明提供一种基板处理系统，在能够沿着以直线延伸的往返路径的生产流水线按照工艺流程的顺序排列配置多个处理单元的串联型基板处理系统中，有效地实现整体长度尺寸的缩短化以及节拍时间的缩短化。在该涂敷显影处理系统(10)中，形成有被盒台(C/S)(14)、去程生产流水线(A)、界面台(I/F)(18)以及回程生产流水线(B)所包围并沿X方向笔直延伸的中庭空间(NS)。在该中庭空间(NS)中，两台减压干燥单元(66L)、(66R)作为第三组的单元互相相对分别被设置在规定位置，并且在两单元(66L)、(66R)之间设置有一台搬送装置(68)。
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公开(公告)号：CN101710564A
公开(公告)日：2010-05-19
申请号：CN200910168563.0
申请日：2009-08-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , G03F7/16 , G03F7/26
Abstract: 本发明提供一种基板处理系统，在能够沿着以直线延伸的往返路径的生产流水线按照工艺流程的顺序排列配置多个处理单元的串联型基板处理系统中，有效地实现整体长度尺寸的缩短化以及节拍时间的缩短化。在该涂敷显影处理系统(10)中，形成有被盒台(C/S)(14)、去程生产流水线(A)、界面台(I/F)(18)以及去程生产流水线(B)所包围并沿X方向笔直延伸的中庭空间(NS)。在该中庭空间(NS)中，两台减压干燥单元(66L)、(66R)作为第三组的单元互相相对分别被设置在规定位置，并且在两单元(66L)、(66R)之间设置有一台搬送装置(68)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1755526A
公开(公告)日：2006-04-05
申请号：CN200510107965.1
申请日：2005-09-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供了一种在被处理基板的表面上涂布形成处理液的膜，与曝光装置连动，在基板上形成规定图案的基板处理系统，能够在各个基板上均匀地涂布处理液，还能够提高与曝光装置连动时的基板处理生产率。在被处理基板的表面上涂布形成处理液的膜，与曝光装置连动，在基板上形成规定图案的基板处理系统(100)中，具有：涂布膜形成装置，该装置具有分别载置被处理基板的第一台面(50)和第二台面(59)，以及在分别载置在上述第一台面(50)和第二台面(59)上的被处理基板表面上涂布处理液，形成膜的处理液涂布装置；基板输送装置(42a)，(42b)，相对于多个曝光装置(4a)，(4b)，而对通过上述涂布膜形成装置形成有膜的被处理基板进行输送。
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公开(公告)号：CN111383975A
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201911300744.4
申请日：2019-12-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供基片处理装置和基片处理方法。实施方式的基片处理装置包括前处理作业线、涂敷作业线、输送作业线、显影处理作业线、第1输送部、第2输送部、第3输送部和第4输送部。涂敷作业线与前处理作业线并排地配置。输送作业线配置在涂敷作业线的上方或者下方。显影处理作业线配置在前处理作业线的上方或者下方。第1输送部设置在前处理作业线与涂敷作业线之间，将基片从前处理作业线输送到涂敷作业线。第2输送部与第1输送部直列地配置，将基片输送到输送作业线。第3输送部与第1输送部直列地配置，将基片输送到显影处理作业线。第4输送部与第1输送部直列地配置，从显影处理作业线输送基片。本发明能够缩短基片处理装置的全长。
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公开(公告)号：CN111383974A
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201911299964.X
申请日：2019-12-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供基片处理装置和基片处理方法。实施方式的基片处理装置包括前处理作业线、涂敷作业线、显影处理作业线、第1输送部、第2输送部和第3输送部。前处理作业线对基片进行前处理。涂敷作业线与前处理作业线并排地配置，在进行了前处理的基片涂敷处理液。显影处理作业线配置在前处理作业线的上方或者下方，对涂敷了处理液的基片进行显影处理。第1输送部设置在前处理作业线与涂敷作业线之间，将基片从前处理作业线输送到涂敷作业线。第2输送部与第1输送部直列地配置，将基片经外部装置输送到显影处理作业线。第3输送部与第1输送部直列地配置，从显影处理作业线输送基片。本发明能够缩短基片处理装置的全长。
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公开(公告)号：CN110875227A
公开(公告)日：2020-03-10
申请号：CN201910789074.0
申请日：2019-08-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种缩短基片处理装置的整体长度的技术。实施方式的基片处理装置包括预处理线、涂敷线、显影线和清洗线。预处理线对基片进行预处理。涂敷线配置在预处理线的下方，在进行了预处理的基片上涂敷光致抗蚀剂液。显影线对涂敷了光致抗蚀剂液的基片进行显影。清洗线配置在显影线的上方，对显影后的基片进行清洗。
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公开(公告)号：CN101038858A
公开(公告)日：2007-09-19
申请号：CN200710087680.5
申请日：2007-03-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , B65G49/06 , B65G49/05 , B65G49/07 , G05B19/04 , G02F1/1333
Abstract: 本发明提供一种即使基板大型其安全性也高并可避免颗粒物飞散而生产率高且能以想要顺序使退避的多个基板再进出搬送线的基板缓冲装置(36)，包括：具有多级能进出搬送线(A)且上下放置搬送线(A)上搬送的基板(G)的载置台(5a～5f)的搁板部(5)和使搁板部(5)升降以使任意载置台(5a～5f)进出搬送线(A)的升降机构(6)，各载置台(5a～5f)具有进出搬送线(A)时沿搬送方向搬送基板(G)的输送机构(50a～50f)并作为搬送线(A)的一部分工作，将搬送线(A)搬送的基板(G)放置在进出搬送线(A)的载置台(5a)，搁板部(5)由升降机构(6)升降使载置台(5a)与基板(G)从搬送线(A)退避。
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