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公开(公告)号：CN1713367A
公开(公告)日：2005-12-28
申请号：CN200510077720.9
申请日：2005-06-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/762 , H01L21/316
Abstract: 本发明提供一种被处理体的氧化方法，在可抽真空的处理容器(22)内，收存表面形成有槽部(4)的被处理体(W)，向上述处理容器内供给氧化性气体和还原性气体，在具有使上述两气体进行反应而产生的氧活性种和氢氧基活性种的环境气氛中，对上述被处理体的表面进行氧化，其中：将上述氧化时的处理容器内的温度设定为900℃以下。由此，不仅沟槽(槽部)的肩部的棱部，底部的棱部也一同倒为圆形，成为曲面形状，防止小面的发生。
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