公开(公告)号：CN118366889A

公开(公告)日：2024-07-19

申请号：CN202410034476.0

申请日：2024-01-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 梅崎翔太 ,  森山茂 ,  大曲智隆 ,  矢羽田庆一 ,  大家修司 ,  田中雄一 ,  大川胜宏 ,  山中学 ,  板桥拓也

IPC: H01L21/67 ,  F26B5/00

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理装置的维护方法，能够顺利地进行干燥单元的维护。基板处理装置具备干燥单元和控制装置，该干燥单元将形成于水平的基板的上表面的液膜置换为超临界流体来对所述基板进行干燥。所述干燥单元具有壁板、电磁锁、压力传感器以及浓度传感器，所述壁板将内部空间与外部空间隔开，所述电磁锁在锁定状态与解锁状态之间切换，所述锁定状态是将所述壁板固定于限制从所述外部空间向所述内部空间的访问的位置的状态，所述解锁状态是允许所述壁板移动的状态。所述控制装置将所述电磁锁的状态从所述锁定状态切换为所述解锁状态的解锁条件包括：所述压力传感器的检测值为阈值以下；以及所述浓度传感器的检测值为阈值以下。

公开(公告)号：CN112185845A

公开(公告)日：2021-01-05

申请号：CN202010571224.3

申请日：2020-06-22

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 信国力 ,  尾嶋智明 ,  板桥拓也 ,  堀口亮一 ,  若山翔太

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种液处理装置，其包括罐、循环通路、泵、多个液处理部和多个供给通路，循环通路具有设有泵的主通路部分和从主通路部分分支的第一分支通路部分和第二分支通路部分，从罐流出的处理液在通过主通路部分后流入各分支通路部分，并通过各分支通路部分返回罐，多个液处理部被划分为第一处理部组和第二处理部组，多个供给通路被划分为第一通路组和第二通路组，属于第一处理部组的液处理部分别经由属于第一通路组的供给通路连接于第一分支通路部分，属于第二处理部组的液处理部分别经由属于第二通路组的供给通路连接于第二分支通路部分。根据本发明，能够减少液处理装置的处理液供给机构的部件数量。