公开(公告)号：CN102677021A

公开(公告)日：2012-09-19

申请号：CN201210045124.2

申请日：2012-02-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 铃木启介 ,  周保华 ,  张德清

IPC: C23C16/455 ,  H01L21/203

CPC classification number: H01L21/0228 ,  C23C16/345 ,  C23C16/45527 ,  C23C16/52 ,  H01L21/0217

Abstract: 本发明提供成膜方法和成膜装置。该成膜方法通过向基板交替供给至少第1原料气体和第2原料气体而在基板上堆积由第1原料气体和第2原料气体的反应产生的反应生成物质的薄膜。该方法包括：不向用于收容基板的处理容器内供给气体而对处理容器内进行真空排气的步骤；向处理容器内供给非活性气体直到处理容器内成为规定压力的步骤；在处理容器内的真空排气停止的状态下向以规定压力充满了非活性气体的处理容器内供给第1原料气体的步骤；停止供给第1原料气体并且对处理容器内进行真空排气的步骤；向处理容器内供给第2原料气体的步骤；停止供给第2原料气体并且对处理容器内进行真空排气的步骤。

公开(公告)号：CN102677021B

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201210045124.2

申请日：2012-02-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 铃木启介 ,  周保华 ,  张德清

IPC: C23C16/455 ,  H01L21/203

CPC classification number: H01L21/0228 ,  C23C16/345 ,  C23C16/45527 ,  C23C16/52 ,  H01L21/0217

Abstract: 本发明提供成膜方法和成膜装置。该成膜方法通过向基板交替供给至少第1原料气体和第2原料气体而在基板上堆积由第1原料气体和第2原料气体的反应产生的反应生成物质的薄膜。该方法包括：不向用于收容基板的处理容器内供给气体而对处理容器内进行真空排气的步骤；向处理容器内供给非活性气体直到处理容器内成为规定压力的步骤；在处理容器内的真空排气停止的状态下向以规定压力充满了非活性气体的处理容器内供给第1原料气体的步骤；停止供给第1原料气体并且对处理容器内进行真空排气的步骤；向处理容器内供给第2原料气体的步骤；停止供给第2原料气体并且对处理容器内进行真空排气的步骤。