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公开(公告)号：CN102881618A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201210245908.X
申请日：2012-07-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种在真空中进行伴随热的处理的基板处理装置，基板处理系统和基板搬送方法，即使以高速搬送基板也能够提高基板的位置精度。对进行伴随热的真空处理的真空处理单元搬入和搬出基板的基板搬送装置，包括：具有决定基板位置的定位销，在对基板定位的状态下保持基板的拾取器；以通过拾取器对真空处理单元进行基板的搬入和搬出的方式驱动拾取器的驱动部；和控制拾取器的基板搬送动作的搬送控制部，搬送控制部，预先掌握在将基板搬入真空处理单元时的常温中基板的基准位置信息，在实际处理中，将基板搬入真空处理单元时，计算从该基板的基准位置的位置偏移，控制驱动部来修正位置偏移，将基板搬入真空处理单元。
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