公开(公告)号：CN101855708B

公开(公告)日：2012-10-10

申请号：CN200980100966.X

申请日：2009-03-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 青山真太郎 ,  下村晃司 ,  小林仙尚

IPC: H01L21/26

CPC classification number: H01L21/67115 ,  H01L21/67109

Abstract: 本发明提供一种热处理装置，其对被处理体(W)实施热处理，其包括：形成为能够收容被处理体的处理容器(6)；支承被处理体的支承单元(38)；设置在处理容器的顶棚部的第一照射窗(26A)；设置在第一照射窗的外侧的、发出加热用的热射线的第一加热单元(28A)；向处理容器内供给规定的气体的气体供给单元(12)；对处理容器内的气氛进行排气的排气单元(20)；和膜防止附着部件(80)，其设置在支承单元和上述第一照射窗之间，在其一部分形成有用于遮断热射线的一部分或全部的遮光部(86)。由此，能够防止在照射窗产生模糊不清同时能够高度维持热处理后的薄膜的膜厚的面内均匀性。

公开(公告)号：CN101855708A

公开(公告)日：2010-10-06

申请号：CN200980100966.X

申请日：2009-03-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 青山真太郎 ,  下村晃司 ,  小林仙尚

IPC: H01L21/26

CPC classification number: H01L21/67115 ,  H01L21/67109

Abstract: 本发明提供一种热处理装置，其对被处理体(W)实施热处理，其包括：形成为能够收容被处理体的处理容器(6)；支承被处理体的支承单元(38)；设置在处理容器的顶棚部的第一照射窗(26A)；设置在第一照射窗的外侧的、发出加热用的热射线的第一加热单元(28A)；向处理容器内供给规定的气体的气体供给单元(12)；对处理容器内的气氛进行排气的排气单元(20)；和膜防止附着部件(80)，其设置在支承单元和上述第一照射窗之间，在其一部分形成有用于遮断热射线的一部分或全部的遮光部(86)。由此，能够防止在照射窗产生模糊不清同时能够高度维持热处理后的薄膜的膜厚的面内均匀性。