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公开(公告)号：CN116941018A
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN202280015232.7
申请日：2022-03-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065
Abstract: 所公开的等离子体处理装置包括：腔室、等离子体生成部、多个环状电磁体单元、电源、至少一个光学传感器及控制部。多个环状电磁体单元相对于通过腔室内部空间的轴线设置成同轴状。至少一个光学传感器检测腔室10内的沿径向的等离子体的发光强度分布。控制部控制电源以根据等离子体的发光强度分布来调整分别供给到多个环状电磁体单元的电流。
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