-
公开(公告)号：CN103088313B
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201210419154.5
申请日：2012-10-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: C23C16/4404 , C23C16/4405 , H01L21/02115 , H01L21/02271
Abstract: 本发明提供成膜装置及其运用方法。在成膜装置的运用方法中，在处理容器内进行在保持于保持部件的被处理体的表面形成碳膜的成膜工序，并且为了除去无用的碳膜而利用清洁气体进行清洁工序，其中，在成膜工序之前，在接触于处理容器内的处理空间的构件的表面形成提高碳膜的密合性且相对于清洁气体具有耐受性的耐受性预涂膜。由此，提高了碳膜的密合性，而且即使进行除去无用的碳膜的清洁处理，也会残留耐受性预涂膜。
-
公开(公告)号：CN103088314B
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201210419452.4
申请日：2012-10-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: C23C16/4405 , C23C16/4404
Abstract: 本发明提供一种成膜装置及其运用方法。在该成膜装置的运用方法中，在石英制的处理容器内进行在保持于保持部件上的多个被处理体的表面上形成碳膜的成膜工序，其中，进行在与处理容器内的处理空间相接触的石英制的构件的表面上形成使碳膜的密合性提高的密合膜形成工序。由此，使碳膜相对于与处理容器内的处理空间相接触的石英制的构件的表面的密合性提高并抑制产生微粒。
-
公开(公告)号：CN103088314A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201210419452.4
申请日：2012-10-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: C23C16/4405 , C23C16/4404
Abstract: 本发明提供一种成膜装置及其运用方法。在该成膜装置的运用方法中，在石英制的处理容器内进行在保持于保持部件上的多个被处理体的表面上形成碳膜的成膜工序，其中，进行在与处理容器内的处理空间相接触的石英制的构件的表面上形成使碳膜的密合性提高的密合膜的密合膜形成工序。由此，使碳膜相对于与处理容器内的处理空间相接触的石英制的构件的表面的密合性提高并抑制产生微粒。
-
公开(公告)号：CN103088313A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201210419154.5
申请日：2012-10-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: C23C16/4404 , C23C16/4405 , H01L21/02115 , H01L21/02271
Abstract: 本发明提供成膜装置及其运用方法。在成膜装置的运用方法中，在处理容器内进行在保持于保持部件的被处理体的表面形成碳膜的成膜工序，并且为了除去无用的碳膜而利用清洁气体进行清洁工序，其中，在成膜工序之前，在接触于处理容器内的处理空间的构件的表面形成提高碳膜的密合性且相对于清洁气体具有耐受性的耐受性预涂膜。由此，提高了碳膜的密合性，而且即使进行除去无用的碳膜的清洁处理，也会残留耐受性预涂膜。
-
-
-
Search Results
4
records
(took 0.018 seconds)
