公开(公告)号：CN111719137A

公开(公告)日：2020-09-29

申请号：CN202010170282.5

申请日：2020-03-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小川淳 ,  和田博之 ,  栗林昭博 ,  小山峻史

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/455

Abstract: 本发明提供一种成膜装置的清洗方法。该成膜装置的清洗方法能够高效地去除沉积于处理容器的内部的氮化硅膜，并且能够抑制由石英形成的构件的损坏。所述成膜装置的清洗方法包括利用等离子体化后的清洗用气体对沉积氮化硅膜的处理容器的内部进行清洗的工序，所述清洗用气体包含含氟气体和氧气。

公开(公告)号：CN111719137B

公开(公告)日：2023-09-05

申请号：CN202010170282.5

申请日：2020-03-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小川淳 ,  和田博之 ,  栗林昭博 ,  小山峻史

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/455

Abstract: 本发明提供一种成膜装置的清洗方法。该成膜装置的清洗方法能够高效地去除沉积于处理容器的内部的氮化硅膜，并且能够抑制由石英形成的构件的损坏。所述成膜装置的清洗方法包括利用等离子体化后的清洗用气体对沉积氮化硅膜的处理容器的内部进行清洗的工序，所述清洗用气体包含含氟气体和氧气。

公开(公告)号：CN118241184A

公开(公告)日：2024-06-25

申请号：CN202311680112.1

申请日：2023-12-08

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 本间学 ,  及川拓也 ,  吹上纪明 ,  和田博之

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/52 ,  C23C16/50

Abstract: 本发明涉及成膜装置。提供一种能够抑制基板在基板支承部之上滑动的技术。本公开的一技术方案的成膜装置具备：处理容器；以及基板支承部，其设于所述处理容器内，具有供基板载置的凹部，所述凹部在底面具有突起，所述突起沿着载置于所述凹部的所述基板的外周设置。