公开(公告)号：CN118241184A

公开(公告)日：2024-06-25

申请号：CN202311680112.1

申请日：2023-12-08

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 本间学 ,  及川拓也 ,  吹上纪明 ,  和田博之

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/52 ,  C23C16/50

Abstract: 本发明涉及成膜装置。提供一种能够抑制基板在基板支承部之上滑动的技术。本公开的一技术方案的成膜装置具备：处理容器；以及基板支承部，其设于所述处理容器内，具有供基板载置的凹部，所述凹部在底面具有突起，所述突起沿着载置于所述凹部的所述基板的外周设置。

公开(公告)号：CN100474525C

公开(公告)日：2009-04-01

申请号：CN200580000806.X

申请日：2005-08-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 中嶋亘 ,  及川拓也 ,  井上久司

IPC: H01L21/31 ,  H01L21/205 ,  H01L21/22

CPC classification number: H01L21/324 ,  H01L21/67109

Abstract: 本发明的立式热处理装置，其特征在于，包括如下部分：收容被处理体的处理容器；包围所述被处理体的周围而设置，加热所述处理容器，并具有急速冷却功能的主加热器；在所述处理容器的上部弯曲形成的排气口部；用于加热所述排气口部的辅助加热器；用于在所述主加热器急速冷却时使所述辅助加热器从所述排气口部撤开的移动装置；和用于使所述排气口部周围的环境强制排气的强制排气装置。

公开(公告)号：CN1842898A

公开(公告)日：2006-10-04

申请号：CN200580000806.X

申请日：2005-08-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 中嵨亘 ,  及川拓也 ,  井上久司

IPC: H01L21/31 ,  H01L21/205 ,  H01L21/22

CPC classification number: H01L21/324 ,  H01L21/67109

Abstract: 本发明的立式热处理装置，其特征在于，包括如下部分：收容被处理体的处理容器；包围所述被处理体的周围而设置，加热所述处理容器，并具有急速冷却功能的主加热器；在所述处理容器的上部弯曲形成的排气口部；用于加热所述排气口部的辅助加热器；用于在所述主加热器急速冷却时使所述辅助加热器从所述排气口部撤开的移动装置；和用于使所述排气口部周围的环境强制排气的强制排气装置。