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公开(公告)号:CN115811823A
公开(公告)日:2023-03-17
申请号:CN202211071966.5
申请日:2022-09-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/24
Abstract: 本发明提供等离子体源和等离子体处理装置,其能够容易地进行等离子体点火,提高气体的分解效率。等离子体源包括:等离子体生成部,其包括具开口的第一壁和与上述第一壁相对的第二壁,并构成等离子体生成空间;电介质窗,其以封闭上述开口的方式设置于上述第一壁,构成为能够使电磁波透射到上述等离子体生成空间;以及突出部,其设置于上述第二壁,以靠近上述电介质窗的方式从上述第二壁突出,且至少一部分包含导体,在上述突出部设置有朝向上述电介质窗开口的气孔。