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公开(公告)号：CN112789718A
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN201980064790.0
申请日：2019-09-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H02N13/00 , B23Q3/15 , H01L21/02
Abstract: 在一个示例性实施例中，本文描述了一种用于减小微粒与衬底表面之间的吸引力以辅助去除衬底表面上的微粒的新颖技术。更具体而言，利用一种多电极吸盘来辅助清洁衬底。利用该多电极吸盘减小微粒与该衬底之间的吸引力并移动该衬底表面上存在的松动微粒。使用在电极偏压波之间具有相移的交流(AC)电压对该吸盘的电极进行偏压。该衬底表面上所产生的电场波通过使微粒极化来将微粒松动，并使松动的微粒跨衬底移动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117678060A
公开(公告)日：2024-03-08
申请号：CN202280042266.5
申请日：2022-05-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 一种监测浴工艺的示例性方法包括：通过将第一晶圆浸没在浴溶液内来加工该第一晶圆；在第一时间间隔期间捕获包含该第一晶圆的浴溶液的视频；基于在该视频的帧中捕获的光强度来分析该视频；以及基于对该视频的分析来确定该第一时间间隔期间该浴溶液的第一度量。
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公开(公告)号：CN117501424A
公开(公告)日：2024-02-02
申请号：CN202280040341.4
申请日：2022-05-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 一种加工多个衬底的方法，该方法包括将多个衬底浸入包含在槽室中的槽液中；在该槽液中产生气泡；将来自光源的光投射向该槽室；通过用光传感器捕获在与这些气泡相互作用后从该槽室发出的光来生成光传感器数据；并将光传感器数据转换成该槽液的度量。
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公开(公告)号：CN112789718B
公开(公告)日：2024-12-03
申请号：CN201980064790.0
申请日：2019-09-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H02N13/00 , B23Q3/15 , H01L21/02
Abstract: 在一个示例性实施例中，本文描述了一种用于减小微粒与衬底表面之间的吸引力以辅助去除衬底表面上的微粒的新颖技术。更具体而言，利用一种多电极吸盘来辅助清洁衬底。利用该多电极吸盘减小微粒与该衬底之间的吸引力并移动该衬底表面上存在的松动微粒。使用在电极偏压波之间具有相移的交流(AC)电压对该吸盘的电极进行偏压。该衬底表面上所产生的电场波通过使微粒极化来将微粒松动，并使松动的微粒跨衬底移动。
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公开(公告)号：CN112368835B
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN201980044441.2
申请日：2019-07-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H10B43/27 , H10B43/35 , H10B43/50 , H01L29/792
Abstract: 一种蚀刻衬底的方法包括在蚀刻处理系统的槽中提供蚀刻溶液，其中该蚀刻处理系统被配置为控制该蚀刻溶液的温度、该蚀刻溶液的浓度以及该蚀刻溶液在该槽内的流动。该衬底包含具有第一材料和第二材料的交替层的微加工结构，并且该蚀刻溶液包括蚀刻该第一材料并导致要从该衬底上移除的蚀刻产物的酸。该方法进一步包括监测该蚀刻溶液内该蚀刻产物的浓度，并将该蚀刻溶液内该蚀刻产物的浓度维持在低于预定值，以防止该蚀刻产物以阻碍通过该蚀刻溶液蚀刻该第一材料的量沉积在该第二材料上。
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公开(公告)号：CN112368835A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN201980044441.2
申请日：2019-07-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L27/11582 , H01L27/1157 , H01L27/11575 , H01L29/792
Abstract: 一种蚀刻衬底的方法包括在蚀刻处理系统的槽中提供蚀刻溶液，其中该蚀刻处理系统被配置为控制该蚀刻溶液的温度、该蚀刻溶液的浓度以及该蚀刻溶液在该槽内的流动。该衬底包含具有第一材料和第二材料的交替层的微加工结构，并且该蚀刻溶液包括蚀刻该第一材料并导致要从该衬底上移除的蚀刻产物的酸。该方法进一步包括监测该蚀刻溶液内该蚀刻产物的浓度，并将该蚀刻溶液内该蚀刻产物的浓度维持在低于预定值，以防止该蚀刻产物以阻碍通过该蚀刻溶液蚀刻该第一材料的量沉积在该第二材料上。
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