公开(公告)号：CN104576453B

公开(公告)日：2018-06-22

申请号：CN201410575684.8

申请日：2014-10-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 西野雅 ,  舟久保隆男 ,  狐塚慎一 ,  新妻良祐 ,  伊藤务

IPC: H01L21/67 ,  H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32862 ,  B08B7/0035 ,  C23C16/4405 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32477 ,  H01J37/32642 ,  H01J2237/334 ,  H01J2237/3344 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31116

Abstract: 本发明提供一种等离子体处理方法和等离子体处理装置，其有效地除去含金属的附着物。该等离子体处理方法，利用含CxFy气体(其中，x为2以下的整数，y为6以下的整数)且不含氯类气体和氮类气体的处理气体的等离子体，除去附着在配置于处理容器的内部的部件上的含过渡金属和贱金属中的至少任一者的附着物。

公开(公告)号：CN104576453A

公开(公告)日：2015-04-29

申请号：CN201410575684.8

申请日：2014-10-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 西野雅 ,  舟久保隆男 ,  狐塚慎一 ,  新妻良祐 ,  伊藤务

IPC: H01L21/67 ,  H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32862 ,  B08B7/0035 ,  C23C16/4405 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32477 ,  H01J37/32642 ,  H01J2237/334 ,  H01J2237/3344 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31116

Abstract: 本发明提供一种等离子体处理方法和等离子体处理装置，其有效地除去含金属的附着物。该等离子体处理方法，利用含CxFy气体(其中，x为2以下的整数，y为6以下的整数)且不含氯类气体和氮类气体的处理气体的等离子体，除去附着在配置于处理容器的内部的部件上的含过渡金属和贱金属中的至少任一者的附着物。