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公开(公告)号：CN115961250A
公开(公告)日：2023-04-14
申请号：CN202211200148.0
申请日：2022-09-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种处理方法，提供一种能够在基材的表面形成表面粗糙度小的铝的氧化层的技术。本公开的一个方式的处理方法具有以下工序：准备基材；在所述基材的表面形成铝的膜；通过以第一温度对所述基材进行热处理来使所述铝扩散渗透到所述基材；以及通过以比所述第一温度高的第二温度对扩散渗透有所述铝的所述基材进行热处理来形成铝的氧化层。
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