-
公开(公告)号:CN101231952B
公开(公告)日:2010-09-29
申请号:CN200810008828.6
申请日:2008-01-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/316 , H01L21/8242 , C23C16/40 , C23C16/52
CPC classification number: C23C16/409 , C23C16/45531 , C23C16/45553
Abstract: 本发明提供一种在处理容器内配置基板,对基板加热,将气态的Ti原料、气态的Sr原料和气态的氧化剂导入处理容器内,从而在基板上形成SrTiO3膜的SrTiO3膜的成膜方法。使用Sr(C5(CH3)5)2作为Sr原料。该方法依次进行如下工序:将气态的Ti原料导入处理容器内,使其吸附在基板上的工序;将气态的氧化剂导入处理容器内,分解被吸附的Ti原料,形成含Ti氧化膜的工序;将气态的Sr原料导入处理容器内,使其吸附在上述含Ti氧化膜上的工序;和将气态的氧化剂导入处理容器内,分解被吸附的Sr原料,形成含Sr氧化膜的工序,将这些工序作为1个循环,重复进行多个循环。
-
公开(公告)号:CN101231952A
公开(公告)日:2008-07-30
申请号:CN200810008828.6
申请日:2008-01-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/316 , H01L21/8242 , C23C16/40 , C23C16/52
CPC classification number: C23C16/409 , C23C16/45531 , C23C16/45553
Abstract: 本发明提供一种在处理容器内配置基板,对基板加热,将气态的Ti原料、气态的Sr原料和气态的氧化剂导入处理容器内,从而在基板上形成SrTiO3膜的SrTiO3膜的成膜方法。使用Sr(C5(CH3)5)2作为Sr原料。该方法依次进行如下工序:将气态的Ti原料导入处理容器内,使其吸附在基板上的工序;将气态的氧化剂导入处理容器内,分解被吸附的Ti原料,形成含Ti氧化膜的工序;将气态的Sr原料导入处理容器内,使其吸附在上述含Ti氧化膜上的工序;和将气态的氧化剂导入处理容器内,分解被吸附的Sr原料,形成含Sr氧化膜的工序,将这些工序作为1个循环,重复进行多个循环。
-