公开(公告)号：CN111315835B

公开(公告)日：2022-08-26

申请号：CN201880071813.6

申请日：2018-10-19

Applicant: 福吉米株式会社 ,  东亚合成株式会社

Inventor： 土屋公亮 ,  丹所久典 ,  须贺裕介 ,  市坪大辉 ,  竹本贵之 ,  斋藤直彦 ,  河合道广

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/306

Abstract: 提供一种研磨用组合物，其包含水溶性高分子化合物，且适于LPD的降低。通过该申请提供的研磨用组合物包含磨粒、水溶性高分子化合物、和碱性化合物。上述研磨用组合物中，聚合引发剂与阻聚剂的反应物的含量以重量基准计为上述研磨用组合物的0.1ppb以下。

公开(公告)号：CN111315835A

公开(公告)日：2020-06-19

申请号：CN201880071813.6

申请日：2018-10-19

Applicant: 福吉米株式会社 ,  东亚合成株式会社

Inventor： 土屋公亮 ,  丹所久典 ,  须贺裕介 ,  市坪大辉 ,  竹本贵之 ,  斋藤直彦 ,  河合道广

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  B24B37/04 ,  H01L21/306

Abstract: 提供一种研磨用组合物，其包含水溶性高分子化合物，且适于LPD的降低。通过该申请提供的研磨用组合物包含磨粒、水溶性高分子化合物、和碱性化合物。上述研磨用组合物中，聚合引发剂与阻聚剂的反应物的含量以重量基准计为上述研磨用组合物的0.1ppb以下。

公开(公告)号：CN110462797B

公开(公告)日：2023-09-22

申请号：CN201880023169.5

申请日：2018-03-14

Applicant: 福吉米株式会社 ,  东亚合成株式会社

Inventor： 沼田圭祐 ,  土屋公亮 ,  谷口惠 ,  竹本贵之

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

Abstract: 提供一种可以有效地减少边缘塌边量的研磨用组合物。通过本发明提供的研磨用组合物包含磨粒、碱性化合物、含氮水溶性高分子和水。含氮水溶性高分子的分子内不具有N‑H键。

公开(公告)号：CN102458633A

公开(公告)日：2012-05-16

申请号：CN201080024829.5

申请日：2010-06-01

Applicant: 东亚合成株式会社

Inventor： 竹本贵之 ,  浅井洋辅 ,  桐户洋一

IPC: B01F17/52 ,  C08F8/30 ,  C09D17/00

CPC classification number: C09D11/03 ,  C09D7/45

Abstract: 本发明提供一种(甲基)丙烯酸系(共)聚合物的颜料和各种无机颗粒用分散剂，其分散稳定化效果高，可以保持良好的流动性，能够抑制浆料的经时性的增稠、pH的降低，同时能够长期稳定地分散。关于粒径小的无机颜料浆料，表面积的增大所产生的颗粒间的相互作用强，会发生颗粒之间的凝聚，存在浆料粘度增大的倾向。作为颜料用分散剂，其为α，β-不饱和羧酸单体(a)的聚合物(A)或下述共聚物(B)的部分中和物，该共聚物(B)由80～99摩尔％的α，β-不饱和羧酸单体(a)单元以及1～20摩尔％的(甲基)丙烯酸酯单体(b)和聚亚烷基二醇的(甲基)丙烯酸酯的单体(c)的两者或其中一者的单元(其中(a)+(b)+(c)＝100摩尔％)构成，作为中和剂，使用氨或有机胺。

公开(公告)号：CN110462797A

公开(公告)日：2019-11-15

申请号：CN201880023169.5

申请日：2018-03-14

Applicant: 福吉米株式会社 ,  东亚合成株式会社

Inventor： 沼田圭祐 ,  土屋公亮 ,  谷口惠 ,  竹本贵之

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

Abstract: 提供一种可以有效地减少边缘塌边量的研磨用组合物。通过本发明提供的研磨用组合物包含磨粒、碱性化合物、含氮水溶性高分子和水。含氮水溶性高分子的分子内不具有N-H键。

公开(公告)号：CN104024294A

公开(公告)日：2014-09-03

申请号：CN201280059166.X

申请日：2012-11-30

Applicant: 东亚合成株式会社

Inventor： 谷内健太郎 ,  竹本贵之 ,  望月克信 ,  加藤久雄

IPC: C08F290/06 ,  C08J5/18 ,  G02B5/30 ,  G02F1/1335

CPC classification number: C08G18/755 ,  C08F290/06 ,  C08G18/3206 ,  C08G18/3212 ,  C08G18/4202 ,  C08G18/4277 ,  C08G18/44 ,  C08G18/672 ,  G02B5/30 ,  C08G18/664

Abstract: 本发明的目的在于提供用于形成兼顾低光弹性系数和低延迟、耐湿热性良好且柔软性也优异的光学膜的活性能量射线固化型组合物、由该组合物得到的光学膜、偏振片保护膜及偏振板。所述光学膜形成用活性能量射线固化型组合物包含氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(A)及聚合物(B)，所述氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(A)的固化物在23℃下的光弹性系数(以下简称为“光弹性系数”)为30×10-12Pa-1以下，所述聚合物(B)的光弹性系数具有5×10-12Pa-1以下的值，且所述聚合物(B)为除(A)成分以外的聚合物，组合物的固化物的光弹性系数为10×10-12Pa-1以下，并且在以40μm的厚度进行测定时，固化物的正面及斜向40°的面内延迟以及厚度方向的延迟均为5nm以下。