密封膜形成装置和密封膜形成方法

    公开(公告)号:CN107849693B

    公开(公告)日:2020-07-24

    申请号:CN201680043453.X

    申请日:2016-07-19

    Abstract: 本发明提供密封膜形成装置和密封膜形成方法,能够稳定地形成阻隔性高的密封膜。具体而言,该密封膜形成装置具备:第一减压腔室4,其对基材W进行容纳;覆盖膜形成部2,其利用湿法工艺将覆盖膜材料供给至第一减压腔室4内所容纳的基材W而形成覆盖膜93;第二减压腔室5,其对基材W进行容纳;被减压的减压输送路6,其是基材W从第一减压腔室4到第二减压腔室5的输送路径;以及密封膜形成部3,其利用干法工艺将密封膜材料供给至形成在第二减压腔室5内所容纳的基材W上的覆盖膜93而形成密封膜90。

    密封膜形成装置和密封膜形成方法

    公开(公告)号:CN107849693A

    公开(公告)日:2018-03-27

    申请号:CN201680043453.X

    申请日:2016-07-19

    Abstract: 本发明提供密封膜形成装置和密封膜形成方法,能够稳定地形成阻隔性高的密封膜。具体而言,该密封膜形成装置具备:第一减压腔室4,其对基材W进行容纳;覆盖膜形成部2,其利用湿法工艺将覆盖膜材料供给至第一减压腔室4内所容纳的基材W而形成覆盖膜93;第二减压腔室5,其对基材W进行容纳;被减压的减压输送路6,其是基材W从第一减压腔室4到第二减压腔室5的输送路径;以及密封膜形成部3,其利用干法工艺将密封膜材料供给至形成在第二减压腔室5内所容纳的基材W上的覆盖膜93而形成密封膜90。

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