公开(公告)号：CN102674702B

公开(公告)日：2014-05-28

申请号：CN201210034636.9

申请日：2012-02-16

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 北村义之 ,  谷义则 ,  西元美纪 ,  伊藤祯彦 ,  内山悟 ,  山田浩志

IPC: C03C17/00

Abstract: 本发明涉及清扫部件和涂布器的清扫方法、清扫装置以及显示器用部件的制造方法，该清扫部件在清扫时通过提高从涂布器去除的涂布液沿着清扫部件流出的速度，使该涂布液不再附着在涂布器上，且由于涂布液或清洗用溶剂等不残留而不会导致涂布膜厚度异常或涂布膜面的缺陷，该清扫部件具有相对而置的第一面和第二面、且一边与在涂布器的一个方向上延伸的排出口的排出口面和该排出口面的两个邻接面接触一边在该一个方向上滑动，由此对该排出口面和该两个邻接面进行清扫，并且包括：清扫部，设置在第一面侧上，并与排出口面和两个邻接面同时接触；多个流出路径面，以清扫部为起点，一直延伸到第二面侧；其中，在流出路径面上，在第二面侧设置有切槽。

公开(公告)号：CN102688830B

公开(公告)日：2016-03-09

申请号：CN201210046849.3

申请日：2012-02-28

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 西元美纪 ,  伊藤祯彦 ,  内山悟

IPC: B05C5/02 ,  G02F1/1341

Abstract: 本发明提供一种涂布装置和涂布方法，虽然在通过光学涂布机进行涂布之前用多个清扫部件擦拭排出口对于获得稳定的涂布膜来说是有效的方法，但每次更换喷嘴时更换清扫部件并使它与各排出口吻合，这要花费时间，本发明的涂布装置包括：清扫单元，通过被支撑部件支撑的清扫部件进行清扫；θ平台，在所述擦拭方向上能够放置多个所述清扫单元，并具有垂直于其上面的旋转轴；擦拭单元，包括支撑所述θ平台的台座；在所述清扫单元的所述支撑部件和所述θ平台上形成有用于夹持高度调节部件的高度调节面。

公开(公告)号：CN102688830A

公开(公告)日：2012-09-26

申请号：CN201210046849.3

申请日：2012-02-28

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 西元美纪 ,  伊藤祯彦 ,  内山悟

IPC: B05C5/02 ,  G02F1/1341

Abstract: 本发明提供一种涂布装置和涂布方法，虽然在通过光学涂布机进行涂布之前用多个清扫部件擦拭排出口对于获得稳定的涂布膜来说是有效的方法，但每次更换喷嘴时更换清扫部件并使它与各排出口吻合，这要花费时间，本发明的涂布装置包括：清扫单元，通过被支撑部件支撑的清扫部件进行清扫；θ平台，在所述擦拭方向上能够放置多个所述清扫单元，并具有垂直于其上面的旋转轴；擦拭单元，包括支撑所述θ平台的台座；在所述清扫单元的所述支撑部件和所述θ平台上形成有用于夹持高度调节部件的高度调节面。

公开(公告)号：CN102674702A

公开(公告)日：2012-09-19

申请号：CN201210034636.9

申请日：2012-02-16

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 北村义之 ,  谷义则 ,  西元美纪 ,  伊藤祯彦 ,  内山悟 ,  山田浩志

IPC: C03C17/00

Abstract: 本发明涉及清扫部件和涂布器的清扫方法、清扫装置以及显示器用部件的制造方法，该清扫部件在清扫时通过提高从涂布器去除的涂布液沿着清扫部件流出的速度，使该涂布液不再附着在涂布器上，且由于涂布液或清洗用溶剂等不残留而不会导致涂布膜厚度异常或涂布膜面的缺陷，该清扫部件具有相对而置的第一面和第二面、且一边与在涂布器的一个方向上延伸的排出口的排出口面和该排出口面的两个邻接面接触一边在该一个方向上滑动，由此对该排出口面和该两个邻接面进行清扫，并且包括：清扫部，设置在第一面侧上，并与排出口面和两个邻接面同时接触；多个流出路径面，以清扫部为起点，一直延伸到第二面侧；其中，在流出路径面上，在第二面侧设置有切槽。