-
公开(公告)号：CN114969030B
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN202210466715.0
申请日：2022-04-29
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
IPC: G06F16/22 , G06F16/2453 , G01N21/25
Abstract: 本发明提供了一种光谱库索引树的创建方法、光谱库搜索方法，所述光谱库索引树的创建方法包括：建立光谱库L，所述光谱库L中包括N条理论光谱，所述理论光谱包含k个离散波长点，其中，N、k均为大于1的整数；对所述N条理论光谱进行多轮划分，以创建所述光谱库索引树，所述索引树包括若干节点，每个所述节点对应指代一条所述理论光谱。本发明在保证搜索精度的情况下，降低了创建时间的复杂度，具有建树速度快、搜索准确率高、搜索速度快的特点。
-
公开(公告)号：CN113566739B
公开(公告)日：2023-06-13
申请号：CN202110972428.2
申请日：2021-08-23
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
Abstract: 本发明涉及一种用于光学散射的库匹配方法、系统、服务器及可读存储介质，本发明通过针对待测目标建立理论光谱库，设置形貌参数的名义值，而后对形貌参数理论光谱库插值，得到所述形貌参数名义值对应的插值理论光谱，并通过测量得到测量光谱，计算测量光谱与理论光谱的偏差值，偏差值不满足阈值条件时，对所述形貌参数名义值进行更新，直至偏差值满足阈值条件，实现了在不影响提取准确度的情况下提高提取速度，解决了现有技术中存在的提取速度慢、提取准确度低的技术问题。
-
公开(公告)号：CN114969030A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210466715.0
申请日：2022-04-29
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
IPC: G06F16/22 , G06F16/2453 , G01N21/25
Abstract: 本发明提供了一种光谱库索引树的创建方法、光谱库搜索方法，所述光谱库索引树的创建方法包括：建立光谱库L，所述光谱库L中包括N条理论光谱，所述理论光谱包含k个离散波长点，其中，N、k均为大于1的整数；对所述N条理论光谱进行多轮划分，以创建所述光谱库索引树，所述索引树包括若干节点，每个所述节点对应指代一条所述理论光谱。本发明在保证搜索精度的情况下，降低了创建时间的复杂度，具有建树速度快、搜索准确率高、搜索速度快的特点。
-
公开(公告)号：CN112880574A
公开(公告)日：2021-06-01
申请号：CN202110026520.X
申请日：2021-01-08
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
IPC: G01B11/06
Abstract: 本发明提供一种薄膜厚度测量方法，包括：选取样品薄膜的多个数据点，利用椭偏仪测量得到样品薄膜的每一个数据点对应的椭偏参数；根据菲涅尔反射定律得到样品薄膜的厚度初值和椭偏参数之间的关系式；根据样品薄膜的厚度初值和椭偏参数之间的关系式，计算样品薄膜的每一个数据点对应的第一厚度初值；根据样品薄膜的多个数据点对应的多个第一厚度初值，确定样品薄膜的最终厚度初值。本发明克服了现有技术中计算量大，薄膜较薄时难以求解，以及波长范围较短时无法求解等情况，通过数个数据点的计算即可得到样品薄膜准确的厚度初值。
-
公开(公告)号：CN115060661A
公开(公告)日：2022-09-16
申请号：CN202210583699.3
申请日：2022-05-25
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
IPC: G01N21/25
Abstract: 本发明提供一种复合材料层的参数拟合计算方法及系统，方法包括：a、获取待测样品的测量光谱，待测样品包括复合材料层；b、根据复合材料层的参数，基于有效介质EMA通用模型拟合计算待测样品的拟合光谱；c、若拟合光谱达到所述测量光谱的精度要求，则获取复合材料层的参数；若拟合光谱未达到测量光谱的精度要求，则调整复合材料层的参数，重复执行b和c进行迭代，直到拟合光谱达到所述测量光谱的精度要求，获取复合材料层的参数。本发明构建有效介质EMA通用模型，可以通过调整复合材料层的参数，来迭代计算待测样品的拟合光谱，调整参数时不因为某一种或几种具体模型的限制，可适用于包含任何复合材料层的待测样品参数的获取。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113358579A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202110564091.1
申请日：2021-05-21
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
Abstract: 本发明涉及一种宽光谱椭偏光学系统，包括起偏组件和检偏组件；所述起偏组件包括光源、离轴椭圆形反光镜、视场光阑、离轴抛物镜、第一孔径光阑、起偏器、第一相位延迟器、汇聚透镜；所述检偏组件包括准直透镜、第二孔径光阑、第二相位延迟器、检偏器、耦合透镜、光谱仪；所述起偏组件与所述检偏组件工作时沿样品台的法线方向对称放置，且起偏组件与检偏组件间的光路夹角θ为50°＜θ＜180°。本发明利用离轴椭圆形反射镜在不引入色焦移的情况下将193‑1700nm宽光谱光源汇入视场光阑，全光谱能量利用率一致。通过视场光阑控制样品面光斑尺寸。采用离轴抛物镜对通过视场光阑的光束进行了193‑1700nm全波段无色差准直，全光谱能量准直度一致。
-
公开(公告)号：CN112649373A
公开(公告)日：2021-04-13
申请号：CN202011350631.8
申请日：2020-11-26
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
IPC: G01N21/21
Abstract: 本发明提供一种椭偏仪光强自动调节方法及装置，该方法包括：在设定的积分时间内，对采集点积分得到的光强谐波信号；根据设定的采样点数目，求解测量信号的傅里叶系数，当光强信号饱和或欠饱和时，则通过光强信号阈值判断调节探测器的积分时间，以使得光强信号采集帧数大于测量信号的傅里叶系数。该方案在不改变电机转速和改变机械硬件结构的情况下,通过调节积分时间实现光强快速调节，光强自动调节的响应速度快，并保证椭偏仪高信噪比测量。
-
公开(公告)号：CN112880574B
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202110026520.X
申请日：2021-01-08
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
IPC: G01B11/06
Abstract: 本发明提供一种薄膜厚度测量方法，包括：选取样品薄膜的多个数据点，利用椭偏仪测量得到样品薄膜的每一个数据点对应的椭偏参数；根据菲涅尔反射定律得到样品薄膜的厚度初值和椭偏参数之间的关系式；根据样品薄膜的厚度初值和椭偏参数之间的关系式，计算样品薄膜的每一个数据点对应的第一厚度初值；根据样品薄膜的多个数据点对应的多个第一厚度初值，确定样品薄膜的最终厚度初值。本发明克服了现有技术中计算量大，薄膜较薄时难以求解，以及波长范围较短时无法求解等情况，通过数个数据点的计算即可得到样品薄膜准确的厚度初值。
-
公开(公告)号：CN114279974B
公开(公告)日：2024-12-31
申请号：CN202111511446.7
申请日：2021-12-06
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
Abstract: 本发明提供一种含带宽光谱的光谱处理方法，包括步骤：获取待测样件的椭偏光谱、反射光谱、入射光源的带宽以及光强分布节点数；基于光强分布节点数和入射光源的带宽对椭偏光谱和反射光谱做插值处理，得到新椭偏光谱和新反射光谱，并进一步得到新椭偏光谱向量；基于光强分布节点数获取光强分布节点的权重集，并根据权重集构造权重矩阵；基于权重矩阵获取权重逆矩阵；基于权重逆矩阵和新椭偏光谱向量获取无带宽椭偏光谱。本发明根据光源的带宽，利用反卷积法从包含带宽因素的实际测量光谱中计算出不含带宽因素的理想测量光谱，用理想测量光谱代替实际测量光谱进行分析，可有效避免物理模型中对带宽进行耗时的积分运算，可极大提高测量光谱分析效率。
-
公开(公告)号：CN114444350A
公开(公告)日：2022-05-06
申请号：CN202210022621.4
申请日：2022-01-10
Applicant: 上海精测半导体技术有限公司
IPC: G06F30/23 , G06F30/27 , G06K9/62 , G06F17/11 , G06F111/06
Abstract: 本发明提供的一种光学测量数据分析方法，包括：对多个检测样本进行光谱分析，获取每个检测样本的偏差指数和相关系数；设立光谱偏差指数参数和光谱相关系数参数，计算每个检测样本的光谱匹配度指标，使得每个检测样本的光谱匹配度指标均大于预设的光谱匹配度指标阈值；基于偏差指数参数和相关系数参数，对待测件进行光谱分析，计算待测件的光谱匹配度指标，判断待测件是否为正常件。本发明首创性的将偏差指数和相关系数都纳入光谱匹配度指标中，从而可同时从测量光谱与仿真光谱的绝对偏差和波峰及波谷对应情况两个方面对测量结果的可靠性进行评价，通过光谱匹配度指标判断待测件的光谱匹配度，提高光谱匹配度的准确性和鲁棒性。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
14
records
(took 0.028 seconds)
