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公开(公告)号：CN104101485A
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：CN201410318029.4
申请日：2014-07-04
Applicant: 上海理工大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明提供了一种检测凹面光栅分辨率和衍射效率的装置和方法，装置包括单色光发射单元、设置在单色光光路上的成像单元、探测单元、处理单元以及控制单元；顺序连接单色光发射单元、成像单元、探测单元、处理单元以及控制单元，单色光发射单元通过光纤将测试用单色光导入成像单元成像，光谱强度被探测单元中的探测器接收，最后经处理单元记录、分析以及处理探测器中的数据，得出凹面光栅分辨率和衍射效率的数据。本发明的装置简单，所需要的专业设备少，操作简便，可实现各类凹面光栅分辨率和衍射效率的同时检测，也可实现不同类型、不同尺寸凹面光栅在宽波段范围对分辨率和衍射效率的快速检测。
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公开(公告)号：CN104101485B
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：CN201410318029.4
申请日：2014-07-04
Applicant: 上海理工大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明提供了一种检测凹面光栅分辨率和衍射效率的装置和方法，装置包括单色光发射单元、设置在单色光光路上的成像单元、探测单元、处理单元以及控制单元；顺序连接单色光发射单元、成像单元、探测单元、处理单元以及控制单元，单色光发射单元通过光纤将测试用单色光导入成像单元成像，光谱强度被探测单元中的探测器接收，最后经处理单元记录、分析以及处理探测器中的数据，得出凹面光栅分辨率和衍射效率的数据。本发明的装置简单，所需要的专业设备少，操作简便，可实现各类凹面光栅分辨率和衍射效率的同时检测，也可实现不同类型、不同尺寸凹面光栅在宽波段范围对分辨率和衍射效率的快速检测。
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公开(公告)号：CN103543485B
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201310561094.5
申请日：2013-11-13
Applicant: 上海理工大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明涉及一种平面双闪耀光栅的制作方法，其步骤为：a、在对平面玻璃基底进行除尘清洁后先后在其表面分别镀上铬膜和铝膜；b、把刻刀安装在光栅刻划机上，同时将基底放置在工作平台上；c、启动电机进行预刻划，利用电子显微镜观察预刻划的槽型，根据槽型调节好刻刀的刀角倾度和后角高度获得理想槽型，固定好基底在其表面滴上硅油；d、固定好刻刀开始正式刻划，当刻好第一衍射角的光栅后停止电机，旋转选择第二把刻刀固定好位置后开始第二衍射角的光栅的刻划工作；e、完成刻划工作后取出光栅清洗残余的硅油，制得双闪耀光栅。本发明适用于普通光栅刻划机，所制光栅适用于宽波段、体积小、集成化的便携式光谱仪。
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公开(公告)号：CN103543485A
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：CN201310561094.5
申请日：2013-11-13
Applicant: 上海理工大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明涉及一种平面双闪耀光栅的制作方法，其步骤为：a、在对平面玻璃基底进行除尘清洁后先后在其表面分别镀上铬膜和铝膜；b、把刻刀安装在光栅刻划机上，同时将基底放置在工作平台上；c、启动电机进行预刻划，利用电子显微镜观察预刻划的槽型，根据槽型调节好刻刀的刀角倾度和后角高度获得理想槽型，固定好基底在其表面滴上硅油；d、固定好刻刀开始正式刻划，当刻好第一衍射角的光栅后停止电机，旋转选择第二把刻刀固定好位置后开始第二衍射角的光栅的刻划工作；e、完成刻划工作后取出光栅清洗残余的硅油，制得双闪耀光栅。本发明适用于普通光栅刻划机，所制光栅适用于宽波段、体积小、集成化的便携式光谱仪。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103439762B
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201310383125.2
申请日：2013-08-28
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 凹面闪耀光栅的刻划制作方法，包括步骤：提供曲面半径为r的球形凹面基片，将基片固定安装在能够进行横向分度运动的工作台上；提供在竖直方向上能够进行分度运动的刻划机构，刻划机构包含有刻刀。通过刻划机构的竖向分度运动来定位刻刀的竖向分度位置以及工作台的横向分度运动来定位基片的横向分度位置，使刻刀对基片执行预定刻划动作从而在基片上沿其最低凹面点横向两侧分别制得N级均匀分布并具有相同构型的刻槽。本发明将横向分度机制通过移动基片来实现，使横向分度机构与刻划机构分离；同时，通过预先计算精密确定每一级刻槽的横向和竖向位置；从而提高了刻划效率，极大地改善了刻划精度和槽型质量；得到的光栅具有相同法向的槽型。
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公开(公告)号：CN103604498A
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：CN201310638540.8
申请日：2013-12-04
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 本发明涉及一种宽光谱Offner成像光谱仪分光系统，包括光源、两个凹面反射镜、凸面光栅和面阵探测器，凸面光栅凸面对着两块凹面反射镜凹面放置，使三者的球心均置于光轴Z上，光源放置在垂直于光轴Z的平面内，并位于第一凹面反射镜凹面前方，光源发出的光束照射到第一凹面反射镜上，经过第一凹面反射镜反射到凸面光栅上，经过凸面光栅后得到的衍射光谱再照射到第二凹面反射镜上，最后经第二凹面反射镜汇聚到面阵探测器上。用凸面光栅与两个凹面反射镜来构成分光系统，使光谱像连续分布在一个平面上，通过对该结构的仿真与优化，确定出最佳成像时分光系统的物像位置与各结构参数，结构简单，设计方便。
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公开(公告)号：CN103674220B
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201310745151.5
申请日：2013-12-30
Applicant: 上海理工大学
IPC: G01H9/00
Abstract: 本发明提供一种测振系统，用于测量工作台的振动，具有：光源发射部、光学分束部、图像采集部和图像处理部，光学分束部采用分束镜，反射部包括均与工作台连接的第一反射单元和第二反射单元，第一反射单元包括第一反射镜和第二反射镜，第一反射镜将第一反射光束垂直反射至下方的第二反射镜，第二反射镜将第一反射光束再反射回第一反射镜，第二反射单元包括第三反射镜和第四反射镜，第三反射镜将第一透射光束垂直反射至下方的第四反射镜，第四反射镜将接第一透射光束再反射回第三反射镜，第二反射镜的反射面与第四反射镜的反射面间的夹角不超过10°。此结构能实现测量工作台水平与垂直方向上的混合微小振动，对高精度作业工作台的防振有重大意义。
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公开(公告)号：CN103674220A
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201310745151.5
申请日：2013-12-30
Applicant: 上海理工大学
IPC: G01H9/00
Abstract: 本发明提供一种测振系统，用于测量工作台的振动，具有：光源发射部、光学分束部、图像采集部和图像处理部，光学分束部采用分束镜，反射部包括均与工作台连接的第一反射单元和第二反射单元，第一反射单元包括第一反射镜和第二反射镜，第一反射镜将第一反射光束垂直反射至下方的第二反射镜，第二反射镜将第一反射光束再反射回第一反射镜，第二反射单元包括第三反射镜和第四反射镜，第三反射镜将第一透射光束垂直反射至下方的第四反射镜，第四反射镜将接第一透射光束再反射回第三反射镜，第二反射镜的反射面与第四反射镜的反射面间的夹角不超过10°。此结构能实现测量工作台水平与垂直方向上的混合微小振动，对高精度作业工作台的防振有重大意义。
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公开(公告)号：CN103439762A
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：CN201310383125.2
申请日：2013-08-28
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 凹面闪耀光栅的刻划制作方法，包括步骤：提供曲面半径为r的球形凹面基片，将基片固定安装在能够进行横向分度运动的工作台上；提供在竖直方向上能够进行分度运动的刻划机构，刻划机构包含有刻刀。通过刻划机构的竖向分度运动来定位刻刀的竖向分度位置以及工作台的横向分度运动来定位基片的横向分度位置，使刻刀对基片执行预定刻划动作从而在基片上沿其最低凹面点横向两侧分别制得N级均匀分布并具有相同构型的刻槽。本发明将横向分度机制通过移动基片来实现，使横向分度机构与刻划机构分离；同时，通过预先计算精密确定每一级刻槽的横向和竖向位置；从而提高了刻划效率，极大地改善了刻划精度和槽型质量；得到的光栅具有相同法向的槽型。
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