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公开(公告)号：CN104591192A
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：CN201410836081.9
申请日：2014-12-24
Applicant: 上海新安纳电子科技有限公司 , 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: C01B33/113
Abstract: 一种高纯硅酸的制备方法，所述方法包括以下步骤：1）水玻璃稀释：原料水玻璃中二氧化硅含量为15~35wt%，用水稀释后获得的溶液中二氧化硅含量为2~7wt%；2）水玻璃净化：对步骤1）中稀释后获得的溶液采用袋式过滤器过滤；3）阳离子树脂交换：采用阳离子树脂交换，得到硅酸；4）硅酸酸化：对步骤3）中的硅酸通过加酸进行酸化；5）树脂交换：通过树脂交换获得高纯硅酸。本发明中公开的方法制备的高纯硅酸具有金属离子含量低的特点，且其工艺易于操作和大规模连续化生产，对原料要求不高，大大降低了企业的生产成本。
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公开(公告)号：CN103897202A
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201210586912.2
申请日：2012-12-28
Applicant: 上海新安纳电子科技有限公司 , 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种以聚苯乙烯纳米颗粒作为内核，以氧化硅作为壳层，形成聚苯乙烯/氧化硅核壳型纳米复合磨料抛光液的制备方法，属精密抛光材料制备工艺技术领域。本发明提供一种聚苯乙烯/氧化硅核壳型纳米复合磨料的制备方法，包括如下步骤：（1）聚苯乙烯纳米颗粒的制备；（2）在步骤1制备得到的PS胶体中加入醇，搅拌得到均匀混合的液体，之后加入氨水，其用量为0.3～8wt%；最后加入TEOS；搅拌12～48小时即可得到复合磨料；（3）由复合磨料制备抛光液。本发明提供的聚苯乙烯/氧化硅核壳型纳米复合磨料的制备方法所制备的复合磨料具有光滑的表面，适合作为抛光液中的磨料。
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公开(公告)号：CN108002393B
公开(公告)日：2021-07-13
申请号：CN201711445044.5
申请日：2017-12-27
Applicant: 上海新安纳电子科技有限公司 , 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: C01B33/12
Abstract: 本发明涉及抛光液后处理领域，特别是涉及一种利用回收的硅溶胶抛光液制备硅酸的方法。本发明提供一种利用回收的硅溶胶抛光液制备硅酸的方法，包括：将回收的硅溶胶抛光液浓缩；采用碱液将浓缩液溶解；将溶解液稀释、过滤；将所得液体进行阳离子树脂交换处理；将所得交换液进行阴离子树脂交换处理；将所得交换液进行阳离子树脂交换处理，获得硅酸。本发明所提供的制备硅酸的方法制备获得的硅酸可以重新用于硅溶胶的生产，有效地实现了废料的循环再利用，降低了抛光液厂家的废液处理成本，很大程度上解决了目前处理废液成本高、资源浪费等问题。
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公开(公告)号：CN108002393A
公开(公告)日：2018-05-08
申请号：CN201711445044.5
申请日：2017-12-27
Applicant: 上海新安纳电子科技有限公司 , 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: C01B33/12
Abstract: 本发明涉及抛光液后处理领域，特别是涉及一种利用回收的硅溶胶抛光液制备硅酸的方法。本发明提供一种利用回收的硅溶胶抛光液制备硅酸的方法，包括：将回收的硅溶胶抛光液浓缩；采用碱液将浓缩液溶解；将溶解液稀释、过滤；将所得液体进行阳离子树脂交换处理；将所得交换液进行阴离子树脂交换处理；将所得交换液进行阳离子树脂交换处理，获得硅酸。本发明所提供的制备硅酸的方法制备获得的硅酸可以重新用于硅溶胶的生产，有效地实现了废料的循环再利用，降低了抛光液厂家的废液处理成本，很大程度上解决了目前处理废液成本高、资源浪费等问题。
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公开(公告)号：CN103484024A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：CN201310419636.5
申请日：2013-09-13
Applicant: 上海新安纳电子科技有限公司 , 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: C09G1/02
Abstract: 本发明涉及一种二氧化硅介电材料用化学机械抛光液，以所述化学机械抛光液的总重量为基准计，包含以下重量百分比的组分：氧化物抛光颗粒1-50wt%；余量为pH调节剂和水性介质；其中所述氧化物抛光颗粒为胶体二氧化硅；制备过程中：先制备硅酸水溶液，然后取所述硅酸水溶液加热至沸15-60min，继而3分钟内“速冷”至20~50℃，然后重新加热至沸，然后持续滴入前述制备的硅酸水溶液制得胶体二氧化硅溶液，然后过滤、浓缩得到硅溶胶；继而加水性介质稀释并用pH调节剂调节酸碱性即制得所述化学机械抛光液；将所述抛光液应用于半导体中氧化硅介电材料的CMP工艺领域中，具有大大提高氧化硅薄膜去除速率的特点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113277521A
公开(公告)日：2021-08-20
申请号：CN202110531736.1
申请日：2021-05-17
Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 , 上海新安纳电子科技有限公司 , 浙江新创纳电子科技有限公司
IPC: C01B33/143 , C09K3/14
Abstract: 本发明涉及一种胶体二氧化硅的制备方法，本发明采用胶体二氧化硅颗粒边生长边过滤边超滤浓缩排水的方法，实现颗粒制造周期缩短一半以上，生产效率大大提高；制备得到的胶体二氧化硅，粒径在60nm‑150nm，大颗粒数(≥0.56微米的颗粒数)
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公开(公告)号：CN103484024B
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：CN201310419636.5
申请日：2013-09-13
Applicant: 上海新安纳电子科技有限公司 , 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
IPC: C09G1/02
Abstract: 本发明涉及一种二氧化硅介电材料用化学机械抛光液，以所述化学机械抛光液的总重量为基准计，包含以下重量百分比的组分：氧化物抛光颗粒1-50wt%；余量为pH调节剂和水性介质；其中所述氧化物抛光颗粒为胶体二氧化硅；制备过程中：先制备硅酸水溶液，然后取所述硅酸水溶液加热至沸15-60min，继而3分钟内“速冷”至20~50℃，然后重新加热至沸，然后持续滴入前述制备的硅酸水溶液制得胶体二氧化硅溶液，然后过滤、浓缩得到硅溶胶；继而加水性介质稀释并用pH调节剂调节酸碱性即制得所述化学机械抛光液；将所述抛光液应用于半导体中氧化硅介电材料的CMP工艺领域中，具有大大提高氧化硅薄膜去除速率的特点。
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公开(公告)号：CN113636562A
公开(公告)日：2021-11-12
申请号：CN202111026860.9
申请日：2021-09-02
Applicant: 上海新安纳电子科技有限公司 , 浙江新创纳电子科技有限公司 , 上海前瞻创新研究院有限公司
IPC: C01B33/145
Abstract: 本发明提供一种二氧化硅分散液及其制备方法和应用，所述制备方法包括以下步骤：1)浓缩改性硅溶胶，得浓缩硅溶胶；2)在所述浓缩硅溶胶中加入水溶性多元醇，即得二氧化硅分散液。本申请通过浓缩碱性硅溶胶提高硅溶胶的固含量，补入水溶性多元醇一方面能够降低高固含硅溶胶的粘度和含水率，另一方面可以作为抗冻剂提高防火液的抗冻性；本申请制备得到的二氧化硅分散液具有较高的二氧化硅含量，同时具有较低的含水率，应用于防火液中，形成的防火胶层结构致密均匀，具有优异的耐火性和抗冻性，透光率高，不会发生光散射现象，也不会引起用户的视觉偏移。
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公开(公告)号：CN112320807B
公开(公告)日：2022-10-14
申请号：CN202011350194.X
申请日：2020-11-26
Applicant: 上海新安纳电子科技有限公司 , 浙江新创纳电子科技有限公司 , 上海前瞻创新研究院有限公司
IPC: C01B33/146 , C03C27/12 , C09D1/00 , C09D5/18
Abstract: 本发明属于无机纳米材料的技术领域，具体涉及一种改性硅溶胶、防火液、复合防火玻璃及其制备方法和用途。该改性硅溶胶的制备方法包括如下步骤：1)将待改性的硅溶胶与硅烷偶联剂混合并反应；2)将含有反应基团的有机聚合物与步骤1)得到的物料混合并反应，得到所述改性硅溶胶。该改性硅溶胶通过上述制备方法制备获得，用于制备防火液，获得的防火液交联密度高，附着力好。
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公开(公告)号：CN112429741A
公开(公告)日：2021-03-02
申请号：CN202011339078.8
申请日：2020-11-25
Applicant: 上海新安纳电子科技有限公司 , 浙江新创纳电子科技有限公司
IPC: C01B33/146 , B82Y30/00
Abstract: 本发明属于无机非金属纳米材料的改性技术领域，具体涉及一种磺酸基改性硅溶胶及其制备方法和用途。该磺酸基改性硅溶胶的制备方法包括如下步骤：1)将待改性的硅溶胶与醇溶剂混合；2)将含巯基硅烷偶联剂溶液与步骤1)得到的硅溶胶混合，然后加热回流老化；3)将步骤2)得到的物料进行加热除醇，得到巯基改性硅溶胶；4)将氧化剂与步骤3)得到的巯基改性硅溶胶混合并反应，得到所述磺酸基改性硅溶胶。该磺酸基改性硅溶胶通过上述制备方法制备获得，在高浓度以及低pH值条件下稳定性佳。
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