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公开(公告)号：CN103869626B
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201210528727.8
申请日：2012-12-11
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Inventor： 孙文凤
Abstract: 本发明公开一种超高数值孔径光刻成像偏振补偿装置，包括：一光源，用于提供一照明光束；一照明单元，用于将该照明光束调整为曝光光束并照射一掩模板；一投影物镜，用于将透射过该掩模板的成像光束成像至一硅片上；一偏振补偿装置，用于偏振调制该曝光光束或/和该成像光束，该偏振补偿装置位于该照明单元及该掩模板之间或者位于该投影物镜以及该硅片之间。
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公开(公告)号：CN104049466A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201310076400.6
申请日：2013-03-11
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Inventor： 孙文凤
Abstract: 本发明公开一种超高数值孔径光刻成像偏振补偿装置及方法，其中所述装置包括：偏振补偿单元，放置于光刻装置投影物镜的光瞳面并对所述投影物镜的出射光束进行偏振调制；偏振检测装置，位于所述投影物镜的像面，以检测所述投影物镜的视场点的偏振态；偏振控制单元，用于控制所述偏振子单元。与现有及技术相比，本发明可以有效提高期望偏振光强达到97%以上，满足超高数值孔径NA的偏振需求，实现分辨率及关键尺寸均匀性CDU需求。
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公开(公告)号：CN103869626A
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN201210528727.8
申请日：2012-12-11
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Inventor： 孙文凤
Abstract: 本发明公开一种超高数值孔径光刻成像偏振补偿装置，包括：一光源，用于提供一照明光束；一照明单元，用于将该照明光束调整为曝光光束并照射一掩模板；一投影物镜，用于将透射过该掩模板的成像光束成像至一硅片上；一偏振补偿装置，用于偏振调制该曝光光束或/和该成像光束，该偏振补偿装置位于该照明单元及该掩模板之间或者位于该投影物镜以及该硅片之间。
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公开(公告)号：CN101477314B
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：CN200910045590.9
申请日：2009-01-20
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种浸没光刻机，尤其是涉及一种浸没光刻机的浸液供给装置。公开了一种浸没光刻机的浸液供给装置，包括浸液单元和浸液废弃单元，所述浸液废弃单元通过负压回收管路与所述浸液单元连接，所述负压回收管路设有缓冲泄压结构。本发明通过在负压回收管路填充多孔介质材料或在负压回收管路管壁设置具有缓冲泄压作用的泄压凹腔的方式或两者同时采用方式来从源头阻隔振动源，进而抑制和消除振动传递，以达到减振的目的，确保浸液单元流场的稳定和均一性，以减少浸液波动对投影物镜及其上参考框架上灵敏度传感器的影响。由于浸液供给装置与光刻机本身解耦减振，故有利于干法光刻机到浸没光刻机的系统改造、集成和技术继承。
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公开(公告)号：CN101477314A
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200910045590.9
申请日：2009-01-20
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种浸没光刻机，尤其是涉及一种浸没光刻机的浸液供给装置。公开了一种浸没光刻机的浸液供给装置，包括浸液单元和浸液废弃单元，所述浸液废弃单元通过负压回收管路与所述浸液单元连接，所述负压回收管路设有缓冲泄压结构。本发明通过在负压回收管路填充多孔介质材料或在负压回收管路管壁设置具有缓冲泄压作用的泄压凹腔的方式或两者同时采用方式来从源头阻隔振动源，进而抑制和消除振动传递，以达到减振的目的，确保浸液单元流场的稳定和均一性，以减少浸液波动对投影物镜及其上参考框架上灵敏度传感器的影响。由于浸液供给装置与光刻机本身解耦减振，故有利于干法光刻机到浸没光刻机的系统改造、集成和技术继承。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101349798A
公开(公告)日：2009-01-21
申请号：CN200810042325.0
申请日：2008-08-29
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提出一种全折射式投影物镜，用于将物平面内的图案投射到像平面内，所述投影物镜系统由25片光学镜片组成，从物面到像面依次排列有五个镜片组，其中，第一和第三镜片组具有负光焦度，第二、第四和第五镜片组具有正光焦度，本发明可以控制物方和像方远心度在3毫弧度以内，提高了光刻不同层之间的互联性能，另外减少镜片使用的数量，且使用同一材料的镜片，降低了制造成本和调试的难度。
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公开(公告)号：CN103364928A
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201210091295.9
申请日：2012-03-31
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Inventor： 孙文凤
Abstract: 一种投影物镜光学系统，从物面到像面依次包括：第一透镜组，其光焦度为正；第二透镜组，其光焦度为负；第三透镜组，其光焦度为正；第四透镜组，其光焦度为负；第五透镜组，其光焦度为正；以及光阑，位于第五透镜组之间；其特征在于，该投影物镜系统的有效焦距f、该物面至像面的距离L满足以下条件：。本发明的投影物镜应用在光刻机系统中可以降低场曲对焦深的损失，同时提高球差波像差，减少波像差恶化导致的曝光图形的成像质量的损失。
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公开(公告)号：CN101349798B
公开(公告)日：2010-06-02
申请号：CN200810042325.0
申请日：2008-08-29
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提出一种全折射式投影物镜，用于将物平面内的图案投射到像平面内，所述投影物镜系统由25片光学镜片组成，从物面到像面依次排列有五个镜片组，其中，第一和第三镜片组具有负光焦度，第二、第四和第五镜片组具有正光焦度，本发明可以控制物方和像方远心度在3毫弧度以内，提高了光刻不同层之间的互联性能，另外减少镜片使用的数量，且使用同一材料的镜片，降低了制造成本和调试的难度。
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公开(公告)号：CN106933043A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201511024258.6
申请日：2015-12-30
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Inventor： 孙文凤
Abstract: 本发明公开了一种光刻成像系统及其投影曝光方法，该光刻成像系统包括：光源、照明组件、掩模和投影物镜，所述照明组件与掩模之间和/或投影物镜与硅片之间设置有偏振补偿装置，所述投影物镜的像面上设置有远心检测装置，所述偏振补偿装置和远心检测装置分别连接至偏振控制单元。本发明通过在照明组件与投影物镜和/或投影物镜与像面之间直接加入偏振补偿装置，改变了投影物镜的偏振输入，对光刻成像系统进行偏振补偿，改善了系统传输特性，达到了提高投影成像光刻分辨率的目的；此外，在光刻成像系统中加入偏振补偿器件，不影响原照明组件和投影物镜的技术参数，因此可以在设计制造光刻曝光系统时就考虑加入，使光刻成像系统的设计简单方便。
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公开(公告)号：CN103207528B
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201210013381.8
申请日：2012-01-17
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种用于补偿光刻成像质量的光瞳修正方法，包括：指定多个掩模版和投影物镜的光瞳，获得多种照明光源图像，建立该多种照明光源主成分和空间像之间的关系；在该指定中选择一组掩模版和光瞳，对其名义光源进行主成分分析，获得各个主成分的名义权重，结合该多种照明光源主成分和空间像之间的关系利用查表算法和线性回归算法计算出该各个主成分的目标权重，从而获得光源参数设置变化量和光源内部可动元件调整量。本发明同时公开一种用于补偿光刻成像质量的光刻曝光系统。
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