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公开(公告)号：CN108901114A
公开(公告)日：2018-11-27
申请号：CN201810845748.X
申请日：2018-07-27
Applicant: 上海工程技术大学
IPC: H05H1/46
Abstract: 本发明涉及一种等离子体射流的发生装置，该装置与微波电源耦合，该装置包括波导组件和设于波导组件底部的底部遮挡机构，所述的波导组件包括同轴设置的内导体和外导体，所述的内导体设于外导体内，所述的外导体的侧壁上方设有进气口，所述的外导体的侧壁下方设有延伸至外导体底部、且在径向上贯通的第一狭缝，所述的底部遮挡机构通过第一狭缝在外导体的下方垂直移动，所述的底部遮挡机构设有能够调节遮挡面积的挡片组件。与现有技术相比，本发明具有结构简单、成本低廉、调节方便等优点。
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公开(公告)号：CN108770173B
公开(公告)日：2020-11-20
申请号：CN201810847719.7
申请日：2018-07-27
Applicant: 上海工程技术大学
IPC: H05H1/30
Abstract: 本发明涉及一种等离子体射流产生装置，包括伸缩组件(110)和介质管组件(120)，其中：伸缩组件(110)，该伸缩组件(110)可沿纵向伸缩，且具有沿纵向贯通的中空空间；介质管组件(120)，沿纵向穿设于中空空间中，内部具有沿纵向贯通的气体通道，侧表面缠绕有沿纵向的螺旋天线(130)，并可通过伸缩组件(110)的伸缩改变螺旋天线(130)的纵向长度。与现有技术相比，本发明可方便地改变螺旋天线的纵向长度，从而方便地调节等离子体参数，使放电更稳定，并且能更好地适应各种应用场景，而且结构简单，成本低廉，可广泛推广使用。
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公开(公告)号：CN108901114B
公开(公告)日：2020-07-10
申请号：CN201810845748.X
申请日：2018-07-27
Applicant: 上海工程技术大学
IPC: H05H1/46
Abstract: 本发明涉及一种等离子体射流的发生装置，该装置与微波电源耦合，该装置包括波导组件和设于波导组件底部的底部遮挡机构，所述的波导组件包括同轴设置的内导体和外导体，所述的内导体设于外导体内，所述的外导体的侧壁上方设有进气口，所述的外导体的侧壁下方设有延伸至外导体底部、且在径向上贯通的第一狭缝，所述的底部遮挡机构通过第一狭缝在外导体的下方垂直移动，所述的底部遮挡机构设有能够调节遮挡面积的挡片组件。与现有技术相比，本发明具有结构简单、成本低廉、调节方便等优点。
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公开(公告)号：CN108770173A
公开(公告)日：2018-11-06
申请号：CN201810847719.7
申请日：2018-07-27
Applicant: 上海工程技术大学
IPC: H05H1/30
Abstract: 本发明涉及一种等离子体射流产生装置，包括伸缩组件(110)和介质管组件(120)，其中：伸缩组件(110)，该伸缩组件(110)可沿纵向伸缩，且具有沿纵向贯通的中空空间；介质管组件(120)，沿纵向穿设于中空空间中，内部具有沿纵向贯通的气体通道，侧表面缠绕有沿纵向的螺旋天线(130)，并可通过伸缩组件(110)的伸缩改变螺旋天线(130)的纵向长度。与现有技术相比，本发明可方便地改变螺旋天线的纵向长度，从而方便地调节等离子体参数，使放电更稳定，并且能更好地适应各种应用场景，而且结构简单，成本低廉，可广泛推广使用。
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