公开(公告)号：CN108901114B

公开(公告)日：2020-07-10

申请号：CN201810845748.X

申请日：2018-07-27

Applicant: 上海工程技术大学

Inventor： 昌锡江 ,  朱珠 ,  王大伟 ,  梁逸轩 ,  方玲

IPC: H05H1/46

Abstract: 本发明涉及一种等离子体射流的发生装置，该装置与微波电源耦合，该装置包括波导组件和设于波导组件底部的底部遮挡机构，所述的波导组件包括同轴设置的内导体和外导体，所述的内导体设于外导体内，所述的外导体的侧壁上方设有进气口，所述的外导体的侧壁下方设有延伸至外导体底部、且在径向上贯通的第一狭缝，所述的底部遮挡机构通过第一狭缝在外导体的下方垂直移动，所述的底部遮挡机构设有能够调节遮挡面积的挡片组件。与现有技术相比，本发明具有结构简单、成本低廉、调节方便等优点。

公开(公告)号：CN108901114A

公开(公告)日：2018-11-27

申请号：CN201810845748.X

申请日：2018-07-27

Applicant: 上海工程技术大学

Inventor： 昌锡江 ,  朱珠 ,  王大伟 ,  梁逸轩 ,  方玲

IPC: H05H1/46

Abstract: 本发明涉及一种等离子体射流的发生装置，该装置与微波电源耦合，该装置包括波导组件和设于波导组件底部的底部遮挡机构，所述的波导组件包括同轴设置的内导体和外导体，所述的内导体设于外导体内，所述的外导体的侧壁上方设有进气口，所述的外导体的侧壁下方设有延伸至外导体底部、且在径向上贯通的第一狭缝，所述的底部遮挡机构通过第一狭缝在外导体的下方垂直移动，所述的底部遮挡机构设有能够调节遮挡面积的挡片组件。与现有技术相比，本发明具有结构简单、成本低廉、调节方便等优点。