一种快速制备NiSn4单晶相的方法

    公开(公告)号:CN111379029A

    公开(公告)日:2020-07-07

    申请号:CN202010337787.6

    申请日:2020-04-26

    Abstract: 本发明涉及一种快速制备NiSn4单晶相的方法,使用单晶Ni片作为焊盘,与Sn基钎料在220~260℃回流,即可制备得到NiSn4单晶相;所述NiSn4单晶相厚度≥3μm,面积不小于4μm2;所述NiSn4单晶相的形状为大片板状,而不是传统的柱状;所述NiSn4单晶相是沿着 方向生长的化合物,而不是生长方向无序;所述NiSn4单晶相是在界面生成的是扁平状,而不是直立形状。本发明制备的大片的NiSn4单晶相能作为电子微连接中的扩散阻挡层,提高电子封装中互连结构的电迁移可靠性。本发明的优点是快速制备,质量可靠,易控制,制备过程受外界环境条件影响小,且制备的NiSn4单晶相厚度可控。

    一种快速制备NiSn4单晶相的方法

    公开(公告)号:CN111379029B

    公开(公告)日:2021-04-06

    申请号:CN202010337787.6

    申请日:2020-04-26

    Abstract: 本发明涉及一种快速制备NiSn4单晶相的方法,使用单晶Ni片作为焊盘,与Sn基钎料在220~260℃回流,即可制备得到NiSn4单晶相;所述NiSn4单晶相厚度≥3μm,面积不小于4μm2;所述NiSn4单晶相的形状为大片板状,而不是传统的柱状;所述NiSn4单晶相是沿着 方向生长的化合物,而不是生长方向无序;所述NiSn4单晶相是在界面生成的是扁平状,而不是直立形状。本发明制备的大片的NiSn4单晶相能作为电子微连接中的扩散阻挡层,提高电子封装中互连结构的电迁移可靠性。本发明的优点是快速制备,质量可靠,易控制,制备过程受外界环境条件影响小,且制备的NiSn4单晶相厚度可控。

    一种铝钢异种金属激光熔钎填丝焊的工艺

    公开(公告)号:CN110899882A

    公开(公告)日:2020-03-24

    申请号:CN201911251370.1

    申请日:2019-12-09

    Abstract: 本发明公开一种铝钢异种金属激光熔钎填丝焊的工艺,步骤包括:焊接界面处的双相钢和铝合金之间加入钎料,所述钎料表面涂覆有钎剂,在保护气体环境下激光熔钎焊,最终钎焊界面处形成铁-铝-锌相组成的钢/铝接头。本发明利用连续二极管激光熔钎焊方法,采用Zn-Al的钎料,进行铝/钢激光焊。通过调整激光焊接工艺参数,控制焊接热输入,控制中间层的熔化程度;通过添加适当钎料作为填充材料,可将焊缝和界面组织合金化,降低焊缝反应产物的脆性,控制金属间化合物的成分,获得焊缝成型美观、无裂纹、少气孔的焊接接头;本发明方法成本低,操作方便灵活,焊接效率高,获得满足使用要求的钢与铝异种金属焊接接头。

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