再制造过程中的活塞杆表面的硬质PVD修复镀层及其制备方法

    公开(公告)号:CN105039921A

    公开(公告)日:2015-11-11

    申请号:CN201510315167.1

    申请日:2015-06-10

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明公开了一种再制造过程中的活塞杆表面的硬质PVD修复镀层及其制备方法,利用物理气相沉积(PVD)方法,对再制造过程中气密性不合格的活塞杆镀铬层进行修复,本发明工艺属于材料表面处理技术领域。本发明采用非平衡磁控溅射气象沉积法,配备纯金属铬靶材,在气密性不合格的活塞杆电镀铬层表面沉积单层硬质铬,PVD镀层厚度约为3~5μm。采用此发明可以将电镀铬层的气孔和网状贯通性裂纹堵住,并在表面获得致密的镀层,达到阻断渗漏通道的作用。同时,PVD镀铬层与电镀层结合良好,硬度高,耐磨性好。本发明能够适用于经气密性检测不合格或使用一段时间气密性变差的再制造活塞杆气密件的修复。

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